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偵測不到亮點(diǎn)之情況不會出現(xiàn)亮點(diǎn)之故障：1.亮點(diǎn)位置被擋到或遮蔽的情形（埋入式的接面及大面積金屬線底下的漏電位置）；2.歐姆接觸；3.金屬互聯(lián)短路；4.表面反型層；5.硅導(dǎo)電通路等。 亮點(diǎn)被遮蔽之情況：埋入式的接面及大面積金屬線底下的漏電位置，這種情況...

作為國內(nèi)少數(shù)掌握 Thermal EMMI 技術(shù)并實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)的企業(yè)之一，致晟光電在設(shè)備國產(chǎn)化和產(chǎn)業(yè)落地方面取得了雙重突破。設(shè)備在光路設(shè)計(jì)、探測器匹配、樣品平臺穩(wěn)定性等關(guān)鍵環(huán)節(jié)均采用自主方案，確保整機(jī)性能穩(wěn)定且易于維護(hù)。更重要的是，致晟光電深度參與國內(nèi)封測廠、晶圓...

EMMI 技術(shù)自誕生以來，經(jīng)歷了漫長且關(guān)鍵的發(fā)展歷程。早期的 EMMI 受限于探測器靈敏度與光學(xué)系統(tǒng)分辨率，只能檢測較為明顯的半導(dǎo)體缺陷，應(yīng)用范圍相對狹窄。隨著科技的飛速進(jìn)步，新型深制冷型探測器問世，極大降低了噪聲干擾，拓寬了光信號探測范圍；同時(shí)，高分辨率顯微...

例如，當(dāng)某批芯片在測試中出現(xiàn)漏電失效時(shí)，微光顯微鏡能夠準(zhǔn)確定位具體的失效位置，為后續(xù)分析提供堅(jiān)實(shí)基礎(chǔ)。通過該定位信息，工程師可結(jié)合聚焦離子束（FIB）切割技術(shù)，對芯片截面進(jìn)行精細(xì)觀察，從而追溯至柵氧層缺陷或氧化工藝異常等具體問題環(huán)節(jié)。這一能力使得微光顯微鏡...

致晟光電研發(fā)的熱紅外顯微鏡配置了性能優(yōu)異的InSb（銦銻）探測器，能夠在中波紅外波段（3–5 μm）有效捕捉熱輻射信號。該材料在光電轉(zhuǎn)換方面表現(xiàn)突出，同時(shí)具備極低的本征噪聲。 在制冷條件下，探測器實(shí)現(xiàn)了納瓦級的熱靈敏度，并具備20mK以內(nèi)的溫度分辨能...

在電性失效分析領(lǐng)域，微光顯微鏡 EMMI 常用于檢測擊穿通道、漏電路徑以及器件早期退化區(qū)域。芯片在高壓或大電流應(yīng)力下運(yùn)行時(shí)，這些缺陷部位會產(chǎn)生局部光發(fā)射，而正常區(qū)域則保持暗場狀態(tài)。EMMI 能夠在器件正常封裝狀態(tài)下直接進(jìn)行非接觸式觀測，快速定位失效點(diǎn)，無需拆封...

致晟光電的EMMI微光顯微鏡依托公司在微弱光信號處理領(lǐng)域技術(shù)，將半導(dǎo)體器件在通電狀態(tài)下產(chǎn)生的極低強(qiáng)度光信號捕捉并成像。當(dāng)器件內(nèi)部存在PN結(jié)擊穿、漏電通道、金屬遷移等缺陷時(shí)，會釋放特定波長的光子。致晟光電通過高靈敏度InGaAs探測器、低噪聲光學(xué)系統(tǒng)與自研信號放...

紅外線介于可見光和微波之間，波長范圍0.76~1000μm。凡是高于jd零度(0 K，即-273.15℃)的物質(zhì)都可以產(chǎn)生紅外線，也叫黑體輻射。 由于紅外肉眼不可見，要察覺這種輻射的存在并測量其強(qiáng)弱離不開紅外探測器。1800年英國天文學(xué)家威廉·赫胥爾...

對于3D封裝產(chǎn)品，傳統(tǒng)的失效點(diǎn)定位往往需要采用逐層去層的方法，一層一層地進(jìn)行異常排查與確認(rèn)，不僅耗時(shí)長、人工成本高，還存在對樣品造成不可逆損傷的風(fēng)險(xiǎn)。借助Thermal EMMI設(shè)備，可通過檢測失效點(diǎn)熱輻射在傳導(dǎo)過程中的相位差，推算出失效點(diǎn)在3D封裝結(jié)構(gòu)中的深...

在微光顯微鏡（EMMI）的操作過程中，對樣品施加適當(dāng)電壓時(shí)，其失效點(diǎn)會由于載流子加速散射或電子-空穴對復(fù)合效應(yīng)而發(fā)射特定波長的光子。這些光子經(jīng)過光學(xué)采集與圖像處理后，可形成一張清晰的信號圖，用于反映樣品在供電狀態(tài)下的發(fā)光特征。隨后，通過取消施加在樣品上的電壓，...

在材料科學(xué)領(lǐng)域，研究人員通常需要了解不同材料在受熱環(huán)境下的導(dǎo)熱性能與熱響應(yīng)特性。傳統(tǒng)的熱分析方法多為宏觀測量，難以揭示微觀層面的溫度變化。而熱紅外顯微鏡通過高分辨率的紅外成像能力，能夠?qū)⒉牧媳砻娴臏囟确植记逦尸F(xiàn)出來，從而幫助研究人員深入理解材料的導(dǎo)熱機(jī)制和失...

致晟光電在推動產(chǎn)學(xué)研一體化進(jìn)程中，積極開展校企合作。公司依托南京理工大學(xué)光電技術(shù)學(xué)院，專注開發(fā)基于微弱光電信號分析的產(chǎn)品及應(yīng)用。雙方聯(lián)合攻克技術(shù)難題，不斷優(yōu)化實(shí)時(shí)瞬態(tài)鎖相紅外熱分析系統(tǒng)（RTTLIT），使該系統(tǒng)溫度靈敏度可達(dá)0.0001℃，功率檢測限低至1...

Thermal和EMMI是半導(dǎo)體失效分析中常用的兩種定位技術(shù)，主要區(qū)別在于信號來源和應(yīng)用場景不同。Thermal（熱紅外顯微鏡）通過紅外成像捕捉芯片局部發(fā)熱區(qū)域，適用于分析短路、功耗異常等因電流集中引發(fā)溫升的失效現(xiàn)象，響應(yīng)快、直觀性強(qiáng)。而EMMI（微光顯微鏡）...

RTTLITP20熱紅外顯微鏡通過多元化的光學(xué)物鏡配置，構(gòu)建起從宏觀到納米級的全尺度熱分析能力，靈活適配多樣化的檢測需求。Micro廣角鏡頭可快速覆蓋整塊電路板、大型模組等大尺寸樣品，直觀呈現(xiàn)整體熱分布與散熱趨勢，助力高效完成初步篩查；0.13～0.3X變焦鏡...

近年來，國產(chǎn)微光顯微鏡 EMMI 設(shè)備在探測靈敏度、成像速度和算法處理能力方面取得***進(jìn)步。一些本土廠商針對國內(nèi)芯片制造和封測企業(yè)的需求，優(yōu)化了光路設(shè)計(jì)和信號處理算法，使得設(shè)備在弱信號條件下依然能夠保持清晰成像。例如，通過深度去噪算法和 AI 輔助識別，系統(tǒng)...

Thermal EMMI（Thermal Emission Microscopy）是一種利用半導(dǎo)體器件在工作過程中微弱熱輻射和光發(fā)射信號進(jìn)行失效點(diǎn)定位的先進(jìn)顯微技術(shù)。它通過高靈敏度探測器捕捉納瓦級別的紅外信號，并結(jié)合光學(xué)放大系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)微米甚至亞微米級的空間分辨率...

熱紅外顯微鏡的分辨率不斷提升，推動著微觀熱成像技術(shù)的發(fā)展。早期的熱紅外顯微鏡受限于光學(xué)系統(tǒng)和探測器性能，空間分辨率通常在幾十微米級別，難以滿足微觀結(jié)構(gòu)的檢測需求。隨著技術(shù)的進(jìn)步，采用先進(jìn)的紅外焦平面陣列探測器和超精密光學(xué)設(shè)計(jì)的熱紅外顯微鏡，分辨率已突破微米級，...

在半導(dǎo)體失效分析實(shí)驗(yàn)室中，工程師們常常面臨令人頭疼的難題：一塊價(jià)值百萬的芯片突然“歇工”，卻遲遲找不到故障根源。傳統(tǒng)檢測手段輪番上陣——電性測試無從下手，物理開蓋又可能破壞關(guān)鍵痕跡，整個(gè)分析仿佛陷入迷霧之中。這時(shí)，Thermal EMMI（熱紅外顯微鏡）如同一...

在電子設(shè)備運(yùn)行過程中，當(dāng)某個(gè)元件出現(xiàn)故障或異常時(shí)，通常會伴隨局部溫度升高。熱紅外顯微鏡能夠通過高靈敏度的紅外探測器捕捉到這些極其微弱的熱輻射信號，從而實(shí)現(xiàn)對故障元件的定位。這些探測器通常采用量子級聯(lián)激光器或其他高性能紅外傳感方案，具備寬溫區(qū)適應(yīng)性和高分辨率成像...

thermal emmi（熱紅外顯微鏡）是結(jié)合了熱成像與光電發(fā)射檢測技術(shù)的先進(jìn)設(shè)備，它不僅能捕捉半導(dǎo)體器件因缺陷產(chǎn)生的微弱光信號，還能同步記錄缺陷區(qū)域的溫度變化，實(shí)現(xiàn)光信號與熱信號的協(xié)同分析。當(dāng)半導(dǎo)體器件存在漏電等缺陷時(shí)，除了會產(chǎn)生載流子復(fù)合發(fā)光，往往還會伴隨...

在材料科學(xué)領(lǐng)域，研究人員通常需要了解不同材料在受熱環(huán)境下的導(dǎo)熱性能與熱響應(yīng)特性。傳統(tǒng)的熱分析方法多為宏觀測量，難以揭示微觀層面的溫度變化。而熱紅外顯微鏡通過高分辨率的紅外成像能力，能夠?qū)⒉牧媳砻娴臏囟确植记逦尸F(xiàn)出來，從而幫助研究人員深入理解材料的導(dǎo)熱機(jī)制和失...

作為國內(nèi)少數(shù)掌握 Thermal EMMI 技術(shù)并實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)的企業(yè)之一，致晟光電在設(shè)備國產(chǎn)化和產(chǎn)業(yè)落地方面取得了雙重突破。設(shè)備在光路設(shè)計(jì)、探測器匹配、樣品平臺穩(wěn)定性等關(guān)鍵環(huán)節(jié)均采用自主方案，確保整機(jī)性能穩(wěn)定且易于維護(hù)。更重要的是，致晟光電深度參與國內(nèi)封測廠、晶圓...

在失效分析中，Thermal EMMI 并不是孤立使用的工具，而是與電性測試、掃描聲學(xué)顯微鏡（CSAM）、X-ray、FIB 等技術(shù)形成互補(bǔ)。通常，工程師會先通過電性測試確認(rèn)失效模式，再用 Thermal EMMI 在通電條件下定位熱點(diǎn)區(qū)域。鎖定區(qū)域后，可使用...

Thermal EMMI（Thermal Emission Microscopy）是一種利用半導(dǎo)體器件在工作過程中微弱熱輻射和光發(fā)射信號進(jìn)行失效點(diǎn)定位的先進(jìn)顯微技術(shù)。它通過高靈敏度探測器捕捉納瓦級別的紅外信號，并結(jié)合光學(xué)放大系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)微米甚至亞微米級的空間分辨率...

在材料科學(xué)領(lǐng)域，研究人員通常需要了解不同材料在受熱環(huán)境下的導(dǎo)熱性能與熱響應(yīng)特性。傳統(tǒng)的熱分析方法多為宏觀測量，難以揭示微觀層面的溫度變化。而熱紅外顯微鏡通過高分辨率的紅外成像能力，能夠?qū)⒉牧媳砻娴臏囟确植记逦尸F(xiàn)出來，從而幫助研究人員深入理解材料的導(dǎo)熱機(jī)制和失...

在半導(dǎo)體IC裸芯片的研發(fā)與檢測過程中，熱紅外顯微鏡是一種不可或缺的分析工具。裸芯片內(nèi)部結(jié)構(gòu)高度緊湊、集成度極高，即便出現(xiàn)微小的熱異常，也可能對性能產(chǎn)生不良影響，甚至引發(fā)失效。因此，建立精確可靠的熱檢測手段顯得尤為重要。熱紅外顯微鏡能夠以非接觸方式實(shí)現(xiàn)芯片熱...

從技術(shù)演進(jìn)來看，熱紅外顯微鏡thermal emmi正加速向三大方向突破：一是靈敏度持續(xù)躍升，如量子點(diǎn)探測器的應(yīng)用可大幅增強(qiáng)光子捕捉能力，讓微弱熱信號的識別更精確；二是多模態(tài)融合，通過集成 EMMI 光子探測、OBIRCH 電阻分析等功能，實(shí)現(xiàn) “熱 - ...

在材料科學(xué)領(lǐng)域，研究人員通常需要了解不同材料在受熱環(huán)境下的導(dǎo)熱性能與熱響應(yīng)特性。傳統(tǒng)的熱分析方法多為宏觀測量，難以揭示微觀層面的溫度變化。而熱紅外顯微鏡通過高分辨率的紅外成像能力，能夠?qū)⒉牧媳砻娴臏囟确植记逦尸F(xiàn)出來，從而幫助研究人員深入理解材料的導(dǎo)熱機(jī)制和失...

芯片出問題不用慌！致晟光電專門搞定各類失效難題～不管是靜電放電擊穿的芯片、過壓過流燒斷的導(dǎo)線，還是過熱導(dǎo)致的晶體管損傷、熱循環(huán)磨斷的焊點(diǎn)，哪怕是材料老化引發(fā)的漏電、物理磕碰造成的裂紋，我們都有辦法定位。致晟的檢測設(shè)備能捕捉到細(xì)微的失效信號，從電氣應(yīng)力到熱力學(xué)問...

偵測不到亮點(diǎn)之情況不會出現(xiàn)亮點(diǎn)之故障：1.亮點(diǎn)位置被擋到或遮蔽的情形（埋入式的接面及大面積金屬線底下的漏電位置）；2.歐姆接觸；3.金屬互聯(lián)短路；4.表面反型層；5.硅導(dǎo)電通路等。 亮點(diǎn)被遮蔽之情況：埋入式的接面及大面積金屬線底下的漏電位置，這種情況...