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新型電鍍中間體推動鍍鎳鍍銅工藝升級,高效環(huán)保成為主流趨勢

來源: 發(fā)布時間:2025-09-04

近年來,隨著電子、汽車、五金等下**業(yè)對電鍍層性能要求的不斷提高,電鍍添加劑及其中間體的研發(fā)與應用日益受到重視。特別是在鍍鎳和鍍銅工藝中,高性能中間體的使用不僅提升了鍍層的光亮度、整平性和韌性,還在環(huán)保、節(jié)能方面展現(xiàn)出***優(yōu)勢。

鍍鎳中間體:多功能組合實現(xiàn)全區(qū)域光亮

在鍍鎳工藝中,傳統(tǒng)單一添加劑已難以滿足復雜工件的電鍍需求。目前市場上***使用的鍍鎳中間體主要包括光亮劑(如PA、PME、***)、柔軟劑(如BSI、BBI、BSS)、輔助劑(如ALS、VS、PS)以及整平劑(如BOZ、BEO、MASS)等。

值得注意的是,像MASS(芐基-烯吡啶內(nèi)鹽) 這類不含硫的整平劑,能在全區(qū)域?qū)崿F(xiàn)前列烏亮效果,適用于**外觀件電鍍。而PPSOH(羥基丙烷磺酸吡啶嗡鹽) 雖然在中高區(qū)表現(xiàn)優(yōu)異,但需注意控制添加量,避免因游離吡啶導致低區(qū)發(fā)黑。

鍍銅中間體:高性能細化與整平劑**技術(shù)革新

在酸性鍍銅領域,中間體的分類更為細化,主要包括晶粒細化劑(如SPS、MPS、DPS)、整平光亮劑(如M、N、POSS)和潤濕分散劑(如MT系列、PEG類)等。

其中,POSS(酸銅強整平劑) 以其優(yōu)異的耐高溫、寬電流密度范圍和良好的兼容性,成為替代傳統(tǒng)M、N體系的熱門選擇。此外,GISS、AESS等走位劑的廣泛應用,***提升了復雜工件低區(qū)的覆蓋能力與鍍層均勻性。

環(huán)保與長效性成為研發(fā)重點

隨著環(huán)保政策的收緊,電鍍中間體也在向低毒、低揮發(fā)、高生物降解性的方向發(fā)展。例如,MESS(巰基咪唑丙磺酸鈉) 不僅水溶性好、填平性強,還能減少槽液渾濁和鍍層麻砂現(xiàn)象,表現(xiàn)出良好的環(huán)保性和工藝穩(wěn)定性。

電鍍中間體作為電鍍工藝的“**助劑”,其技術(shù)進步直接推動了下游產(chǎn)品質(zhì)量的提升與工藝的綠色轉(zhuǎn)型。未來,隨著新材料、新工藝的不斷涌現(xiàn),電鍍中間體將繼續(xù)向高效、環(huán)保、多功能一體化方向發(fā)展,為電鍍行業(yè)注入持續(xù)創(chuàng)新動力。

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