設(shè)置靜電紡絲工藝參數(shù)：注射器推進速度3mm/h，紡絲電壓20kv，接收距離8cm，滾筒轉(zhuǎn)速200r/min，在固定于滾筒上的fto玻璃上接收固化的復(fù)合纖維，150℃烘箱中干燥過夜，烘干后置于550℃馬弗爐中煅燒2h，熱分解后即可獲得sr摻雜batio3薄膜電極；配制30ml濃度為、，攪拌均勻，轉(zhuǎn)入50ml水熱反應(yīng)釜中。深圳市世華高半導(dǎo)體有限公司（SIVAGO）成立于2004年，總部設(shè)在深圳，主要負責研發(fā)和銷售工作。該公司選擇將汕尾深汕特別合作區(qū)作為生產(chǎn)基地，負責光電器件的制造。其產(chǎn)品范圍包括光電二極管、光電三極管、紅外線接收頭、發(fā)射管、發(fā)光二極管、硅光電池、霍爾元件、光電開關(guān)、光電編碼器、紙張感應(yīng)器和光電耦合器等。經(jīng)過十余年的發(fā)展，世華高半導(dǎo)體已成為一家先進的半導(dǎo)體器件制造商。公司在全球范圍內(nèi)設(shè)有多個銷售機構(gòu)，分布在中國、印度、泰國、伊朗、香港等多個國家和地區(qū)。將sr摻雜batio3薄膜電極放入反應(yīng)釜內(nèi)，fto導(dǎo)電面朝下，密封水熱反應(yīng)釜，置于恒溫干燥箱中，180℃水熱反應(yīng)6h；反應(yīng)結(jié)束，取出fto電極，水洗3次，60℃下真空干燥8h；干燥后，將薄膜放入管式爐內(nèi)，氮氣保護條件下煅燒，控制煅燒溫度為300℃，煅燒時間為3h即可得sr摻雜batio3/znte光電極。硅光電二極管廠家就找深圳世華高。成都硅光硅光電二極管二極管

當反向工作電壓大于10伏時，光電流基本上不隨反向電壓增加而增加，反映在平行曲線簇上就是平直那段（例如AB段）。由圖③清楚地看出在反向工作電壓大于10伏的條件下管子有較高的靈敏度。圖④表示在反向工作電壓大于10伏情況下，光電流與入射光強度的關(guān)系。從圖④看出在反向工作電壓大于10伏的條件下光電流隨入射光強度的變化基本上是線性的。上述這些，就是硅光電二極管的反向工作電壓必須大于10伏的原因所在。2．硅光電二極管的光電流、暗電流隨溫度的變化均有變化。在環(huán)境溫度0℃以上，反向工作電壓不變的條件下，環(huán)境溫度變化（25～30）℃時，硅光電二極管的暗電流將變化10倍，光電流變化10％左右，所以在要求穩(wěn)定性高的電路中要考慮溫度補償?shù)膯栴}。二、2CU型硅光電二極管在電路中接法：2CU型硅光電二極管在接入電路前先要按產(chǎn)品說明書所述來分清“＋”、“（-）”極。例如2CU-1-和2CU-2-型管子。深圳市世華高半導(dǎo)體有限公司（SIVAGO）成立于2004年，總部設(shè)在深圳，主要負責研發(fā)和銷售工作。該公司選擇將汕尾深汕特別合作區(qū)作為生產(chǎn)基地，負責光電器件的制造。深圳市世華高半導(dǎo)體有限公司（SIVAGO）成立于2004年，總部設(shè)在深圳，主要負責研發(fā)和銷售工作。成都硅光硅光電二極管二極管專注硅光電二極管，智能硬件解決方案-世華高。

設(shè)置靜電紡絲工藝參數(shù)：注射器推進速度3mm/h，紡絲電壓20kv，接收距離8cm，滾筒轉(zhuǎn)速200r/min，在固定于滾筒上的fto玻璃上接收固化的復(fù)合纖維，150℃烘箱中干燥過夜，烘干后置于550℃馬弗爐中煅燒2h，熱分解后即可獲得sr摻雜batio3薄膜電極；配制30ml濃度為、，攪拌均勻，轉(zhuǎn)入50ml水熱反應(yīng)釜中。深圳市世華高半導(dǎo)體有限公司（SIVAGO）成立于2004年，總部設(shè)在深圳，主要負責研發(fā)和銷售工作。該公司選擇將汕尾深汕特別合作區(qū)作為生產(chǎn)基地，負責光電器件的制造。其產(chǎn)品范圍包括光電二極管、光電三極管、紅外線接收頭、發(fā)射管、發(fā)光二極管、硅光電池、霍爾元件、光電開關(guān)、光電編碼器、紙張感應(yīng)器和光電耦合器等。經(jīng)過十余年的發(fā)展，世華高半導(dǎo)體已成為一家先進的半導(dǎo)體器件制造商。公司在全球范圍內(nèi)設(shè)有多個銷售機構(gòu)，分布在中國、印度、泰國、伊朗、香港等多個國家和地區(qū)。將sr摻雜batio3薄膜電極放入反應(yīng)釜內(nèi)，fto導(dǎo)電面朝下，密封水熱反應(yīng)釜，置于恒溫干燥箱中，180℃水熱反應(yīng)6h；反應(yīng)結(jié)束，取出fto電極，水洗3次，60℃下真空干燥8h；干燥后，將薄膜放入管式爐內(nèi)，氮氣保護條件下煅燒，控制煅燒溫度為300℃，煅燒時間為3h，即可得sr摻雜batio3/znte光電極。

本發(fā)明屬于光電催化技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種sr摻雜batio3/znte光陰極材料的制備方法，可以實現(xiàn)znte光生載流子的定向分離，并加速界面co2還原反應(yīng)的活性。背景技術(shù)：能源危機和溫室效應(yīng)是人類目前急需解決的關(guān)鍵科學(xué)難題，以太陽能驅(qū)動的co2還原為解決這些問題提供了一個理想的途徑，該反應(yīng)綠色、**，條件溫和，吸引了多國和科研人員的目光。光電催化反應(yīng)技術(shù)整合光催化和電催化技術(shù)的優(yōu)勢,從而實現(xiàn)對co2還原更高的效率和更理想的選擇性。目前，光電催化co2還原的效率依然很低，太陽能到化學(xué)能的轉(zhuǎn)化效率遠低于工業(yè)應(yīng)用所需的10％效率，根本原因在于載流子復(fù)合嚴重，界面反應(yīng)動力學(xué)緩慢。為了推進光電催化co2還原技術(shù)的實際應(yīng)用，關(guān)鍵是開發(fā)**載流子分離的光陰極材料。znte是一種可見光響應(yīng)的p型半導(dǎo)體()，其導(dǎo)帶邊電勢()遠負于其它半導(dǎo)體，能克服co2還原的熱力學(xué)勢壘，是目前光(電)催化co2還原的理想材料。但是，單一znte光電極材料依然無法**分離光生載流子，大部分載流子在界面反應(yīng)發(fā)生之前復(fù)合損失。構(gòu)建半導(dǎo)體納米異質(zhì)結(jié)是分離光生載流子的通用途徑，但該方法往往需要兩個半導(dǎo)體之間的能帶匹配，且兩相界面需有利于載流子傳輸。這樣，很大地限制了半導(dǎo)體材料的選擇。因此。濱松光電二極管哪家棒！世華高。

以p型離子注入形成有源區(qū)；所述的氧化硅層為熱氧化生成sio2層，所述的氮化硅層為淀積生長的si3n4層；所述的正面金屬電極是在濺射后經(jīng)刻蝕成形。所述外延層的電阻率為500～1000ohm·cm，外延層厚度wepi根據(jù)耗盡區(qū)寬度wd確定：wepi≈wd，而wd≥w入/2，其中w入＝f(λ)，w入為入射光入射深度，λ為入射光波長。一種高速高響應(yīng)度的硅基光電二極管的制備方法，包括以下操作：1)在襯底上濺射生成高反層；2)高反層開設(shè)刻蝕孔；3)高反層上通過淀積的方法生長外延層；4)在外延層上通過離子注入分別形成保護環(huán)和有源區(qū)；5)在保護環(huán)和有源區(qū)上生成sio2層，然后在sio2層上方生成si3n4層；6)在sio2層、si3n4層上刻出接觸孔，然后濺射金屬，濺射完成后刻蝕形成正面金屬電極；7)在襯底的背面做金屬化處理形成背面電極。所述的襯底采用電阻率20～100為ohm·cm的低電阻率硅材料；襯底直接與背面金屬形成良好的歐姆接觸；所述的高反層是由折射率～～，通過化學(xué)氣相淀積或光學(xué)鍍膜技術(shù)生成；所述的外延層的電阻率為500～1000ohm·cm，外延層的厚度與耗盡區(qū)寬度相當；所述的保護環(huán)為as離子源注入，注入劑量為1e15～2e15。深圳市世華高半導(dǎo)體有限公司（SIVAGO）成立于2004年，總部設(shè)在深圳?？缭秸系K，世華高硅光電二極管帶你體驗智能家電。成都硅光硅光電二極管二極管

本發(fā)明的目的通過以下技術(shù)方案實現(xiàn)：本發(fā)明提供一種sr摻雜batio3/znte光陰極材料的制備方法。成都硅光硅光電二極管二極管

世華高半導(dǎo)體已成為一家先進的半導(dǎo)體器件制造商。公司在全球范圍內(nèi)設(shè)有多個銷售機構(gòu)，分布在中國、印度、泰國、伊朗、香港等多個國家和地區(qū)。高反層109由高折射率薄膜與低折射率薄膜交替疊加組成；2)利用等離子刻蝕機在高反層109上以干法刻蝕開設(shè)刻蝕孔，并刻蝕掉與正面金屬電極106相對的高反層109；3)刻蝕完成后，在高反層109上以化學(xué)氣相淀積的方法生長電阻率500～1000ohm·cm的n-外延層，其厚度與耗盡區(qū)寬度相當；4)在外延層101上以as離子源進行n型離子注入，注入劑量1e15～2e15，形成保護環(huán)102。與保護環(huán)102間距12～20um，在外延層101上以b離子源進行p型離子注入，注入劑量1e15～2e15，形成有源區(qū)103；5)在保護環(huán)102和有源區(qū)103上通過熱氧化法生成sio2層104，在sio2層上方淀積生長si3n4層105；6)接連刻穿si3n4層和sio2層形成接觸孔，然后濺射al，并將濺射層刻蝕形成正面金屬電極106；7)在襯底107背面直接進行金屬化處理形成背面電極108。下面給出具體的實施例。實施例11)在n+重摻雜的襯底107上濺射生成厚度3～5um的高反層109，2)利用等離子刻蝕機干法刻蝕工藝在高反層109刻孔；3)高反層109上通過淀積的方法生長n-外延層101。成都硅光硅光電二極管二極管