在計量校準實驗室中，高精度的電子天平用于精確稱量微小質(zhì)量差異，對環(huán)境溫濕度要求極高。若溫度突然升高 2℃，天平內(nèi)部的金屬部件受熱膨脹，傳感器的靈敏度隨之改變，原本能測量到微克級別的質(zhì)量變化，此時卻出現(xiàn)讀數(shù)偏差，導致測量結果失準。濕度方面，當濕度上升至 70% 以上，空氣中的水汽容易吸附在天平的稱量盤及內(nèi)部精密機械結構上，增加了額外的重量，使得測量數(shù)據(jù)偏大，無法反映被測量物體的真實質(zhì)量，進而影響科研實驗數(shù)據(jù)的可靠性以及工業(yè)生產(chǎn)中原材料配比度。擁有超高水準潔凈度控制能力，可達百級以上潔凈標準。浙江精密加工溫濕度

在高濕度環(huán)境中，空氣里水汽含量增大，這對光學儀器而言，無疑是巨大的威脅。儀器內(nèi)部的鏡片猶如極易受潮的精密元件，當水汽附著其上，便會在表面悄然形成一層輕薄且均勻的水膜。這層水膜宛如光線傳播的阻礙，大幅降低光線的透過率，致使成像亮度明顯減弱，對比度也隨之降低，觀測視野仿佛被蒙上一層朦朧的薄紗，原本清晰的景象變得模糊不清。倘若光學儀器長期處于這樣的高濕度環(huán)境，問題將愈發(fā)嚴重。水汽會逐漸滲透至鏡片與鏡筒的結合處，對金屬部件發(fā)起 “攻擊”，使之遭受腐蝕。隨著時間的推移，金屬部件被腐蝕得千瘡百孔，無法穩(wěn)固地固定鏡片，導致鏡片出現(xiàn)松動現(xiàn)象，光路精度被進一步破壞。對于那些運用鍍膜技術來提升光學性能的鏡片，高濕度同樣是一大勁敵，它會使鍍膜層受損，鏡片的抗反射能力大打折扣，進而嚴重影響成像效果，讓光學儀器難以發(fā)揮應有的作用。天津溫濕度控制柜磁屏蔽部分，可通過被動防磁和主動消磁器進行磁場控制。

電子萬能試驗機，作為材料力學性能測試設備，在金屬材料研發(fā)、塑料制品質(zhì)量檢測等眾多領域廣泛應用。它能夠開展材料拉伸、壓縮、彎曲等力學性能測試，為產(chǎn)品質(zhì)量把控與材料特性研究提供關鍵數(shù)據(jù)支撐。然而，環(huán)境溫濕度的波動對其影響極大。溫度波動時，試驗機力傳感器的精度首先受到?jīng)_擊，測量的力值出現(xiàn)偏差，同時還會改變材料自身的力學性能，例如金屬在高溫下屈服強度降低，導致測試結果無法真實反映材料特性。濕度波動時，試驗機的夾具、傳動部件極易生銹腐蝕，致使對試樣的夾持穩(wěn)定性大打折扣，加載均勻性也難以保證，進一步降低測試精度。

我司憑借深厚的技術積累，自主研發(fā)出高精密控溫技術，精度高達 0.1% 的控制輸出。溫度波動值可實現(xiàn)±0.1℃、±0.05℃、±0.01℃、±0.005℃、±0.002℃等精密環(huán)境控制。該系統(tǒng)潔凈度可實現(xiàn)百級、十級、一級。關鍵區(qū)域 ±5mK（靜態(tài)）的溫度穩(wěn)定性，以及均勻性小于 16mK/m 的內(nèi)部溫度規(guī)格，為諸如芯片研發(fā)這類對溫度極度敏感的項目，打造了近乎完美的溫場環(huán)境，保障實驗數(shù)據(jù)不受溫度干擾。同時，設備內(nèi)部濕度穩(wěn)定性可達±0.5%@8h，壓力穩(wěn)定性可達+/-3Pa，長達 144h 的連續(xù)穩(wěn)定工作更是讓長時間實驗和制造無后顧之憂。在潔凈度方面，實現(xiàn)百級以上潔凈度控制，工作區(qū)潔凈度優(yōu)于 ISO class3，確保實驗結果的準確性與可靠性，也保障了精密儀器的正常工作和使用壽命。采用先進的智能自控系統(tǒng)，根據(jù)監(jiān)測數(shù)據(jù)自動調(diào)節(jié)環(huán)境參數(shù)，符合溫濕度波動要求。

數(shù)據(jù)可視化與便捷管理是設備亮點。設備自動生成數(shù)據(jù)曲線，如同設備運行 “心電圖”，便于客戶隨時查看設備運行狀態(tài)。數(shù)據(jù)自動保存，可隨時以表格的形式導出，方便客戶進行數(shù)據(jù)分析和處理。運行狀態(tài)、故障狀態(tài)等事件同步記錄，查詢一目了然，讓客戶對設備狀態(tài)了如指掌。設備采用可拆卸鋁合金框架，大型設備可現(xiàn)場組裝，靈活便捷，減少運輸壓力，方便不同環(huán)境使用運行。箱體采用高質(zhì)量鈑金材質(zhì)，美觀大方，可根據(jù)客戶需求定制外觀顏色，滿足客戶的個性化需求。自面世以來，已為相關領域客戶提供了穩(wěn)定的實驗室環(huán)境以及監(jiān)測服務，獲得了眾多好評。離子束刻蝕機溫濕度調(diào)控箱

根據(jù)高精密行業(yè)用戶的反饋，對產(chǎn)品進行持續(xù)優(yōu)化，不斷提升設備的適用性和穩(wěn)定性。浙江精密加工溫濕度

光刻設備對溫濕度的要求也極高，光源發(fā)出的光線需經(jīng)過一系列復雜的光學系統(tǒng)聚焦到硅片表面特定區(qū)域，以實現(xiàn)對光刻膠的曝光，將設計好的電路圖案印制上去。當環(huán)境溫度出現(xiàn)極其微小的波動，哪怕只是零點幾攝氏度的變化，光刻機內(nèi)部的精密光學元件就會因熱脹冷縮特性而產(chǎn)生細微的尺寸改變。這些光學元件包括鏡片、反射鏡等，它們的微小位移或形狀變化，會使得光路發(fā)生偏差。原本校準、聚焦于硅片特定坐標的光線，就可能因為光路的改變而偏離預定的曝光位置，出現(xiàn)曝光位置的漂移。浙江精密加工溫濕度