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能夠除去抗蝕劑。用本發(fā)明剝離液處理施加有抗蝕劑的基材的條件沒有特別限定，例如，可以舉出在設(shè)為10～80℃的本發(fā)明剝離液中浸漬基材1～60分鐘左右的條件、將設(shè)為10～80℃的本發(fā)明剝離液向基材噴霧1～60分鐘左右的條件。需要說明的是，浸漬時(shí)，可以搖動(dòng)基材，或?qū)Ρ景l(fā)明剝離液施加超聲波。抗蝕劑的種類沒有特別限定，可以是例如干膜抗蝕劑、液體抗蝕劑等中的任一種。干膜抗蝕劑的種類也沒有特別限定，例如推薦堿可溶型的干膜抗蝕劑。作為這樣的堿可溶型的干膜抗蝕劑，例如，可以舉出rd-1225(sap用25μm厚)(日立化成株式會(huì)社制)等。施加抗蝕劑的基材沒有特別限定，例如，可以舉出印刷布線板、半導(dǎo)體基板、平板顯示...

如遇水，圖案則隨著背膠的脫落而脫落。這種印刷方法是通過滾筒式膠質(zhì)印模把沾在膠面上的油墨轉(zhuǎn)印到紙面上。由于膠面是平的，沒有凹下的花紋，所以印出的紙面上的圖案和花紋也是平的，沒有立體感，防偽性較差。膠版印刷所需的油墨較少，模具的制造成本也比凹版低。目前我國(guó)汽車尾氣直接排入空氣中，并未進(jìn)行回收處理，對(duì)空氣造成了巨大污染，同時(shí)會(huì)對(duì)人體造成傷害。技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路本**技術(shù)的目的就在于為了解決上述問題而提供一種印刷品膠面印刷剝離復(fù)合裝置。龍騰光電用的哪家的剝離液？南通鋁鉬鋁蝕刻液剝離液商家本發(fā)明提供的光刻膠剝離去除方法第二實(shí)施例，用于半導(dǎo)體制造工藝中，可應(yīng)用于包括但不限于mos、finfet等所有現(xiàn)有技術(shù)中涉...

能夠增強(qiáng)親水性，使得剝離液親水性良好，能快速高效地剝離溶解光刻膠。潤(rùn)濕劑含有羥基，為聚乙二醇、甘油中的任意一種。下面通過具體實(shí)施例對(duì)本申請(qǐng)作進(jìn)一步詳細(xì)說明。以下實(shí)施例對(duì)本申請(qǐng)進(jìn)行進(jìn)一步說明，不應(yīng)理解為對(duì)本申請(qǐng)的限制。表一：兩種不同組分的剝離液配方一和配方二所采用的基礎(chǔ)組分基本相同，不同的是配方二中加入有潤(rùn)濕劑，上述所描述的潤(rùn)濕劑是用于增強(qiáng)親水性的，滴液與產(chǎn)品表面間的夾角為接觸角，接觸角可用來衡量潤(rùn)濕程度，水滴角測(cè)試儀可測(cè)量接觸角，從潤(rùn)濕角度考慮，接觸角＜90°，且接觸角越小潤(rùn)濕效果越好加入潤(rùn)濕劑后的配方二所制得的剝離液，在滴落在高世代面板后，通過水滴角測(cè)試儀測(cè)接觸角，檢測(cè)圖如圖1所示，三次測(cè)試...

本發(fā)明涉及半導(dǎo)體制造領(lǐng)域，特別是涉及一種用于包括但不限于半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中光刻膠去除步驟的光刻膠剝離去除方法。背景技術(shù)：光刻膠是一大類具有光敏化學(xué)作用(或?qū)﹄娮幽芰棵舾?的高分子聚合物材料，是轉(zhuǎn)移紫外曝光或電子束曝照?qǐng)D案的媒介。光刻膠的也稱為光致抗蝕劑、光阻等，其作用是作為抗刻蝕層保護(hù)襯底表面。光刻膠廣泛應(yīng)用于集成電路(ic)、封裝(packaging)、微機(jī)電系統(tǒng)(mems)、光電子器件光子器件(optoelectronics/photonics)、平板顯示其(led、lcd、oled)和太陽能光伏(solarpv)等領(lǐng)域。在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域，離子注入層光刻膠(參考圖2)在經(jīng)過高劑量或大分子量的...

濕電子化學(xué)品位于電子信息產(chǎn)業(yè)偏中上游的材料領(lǐng)域。濕電子化學(xué)品上游是基礎(chǔ)化工產(chǎn)品，下游是電子信息產(chǎn)業(yè)（信息通訊、消費(fèi)電子、家用電器、汽車電子、LED、平板顯示、太陽能電池、**等領(lǐng)域）。濕電子化學(xué)品的生產(chǎn)工藝主要采用物理的提純技術(shù)及混配技術(shù)，將工業(yè)級(jí)的化工原料提純?yōu)槌瑑舾呒兓瘜W(xué)試劑，并按照特定的配方混配為具有特定功能性的化學(xué)試劑。濕電子化學(xué)品行業(yè)是精細(xì)化工和電子信息行業(yè)交叉的領(lǐng)域，其行業(yè)特色充分融入了兩大行業(yè)的自身特點(diǎn)，具有品種多、質(zhì)量要求高、對(duì)環(huán)境潔凈度要求苛刻、產(chǎn)品更新?lián)Q代快、產(chǎn)品附加值高、資金投入量大等特點(diǎn)，是化工領(lǐng)域相當(dāng)有發(fā)展前景的領(lǐng)域之一。專業(yè)配方，博洋剝離液是您的明智之選。安徽銅蝕刻...

本發(fā)明下述示例性實(shí)施例可以多種不同的形式來實(shí)施，并且不應(yīng)當(dāng)被解釋為只限于這里所闡述的具體實(shí)施例。應(yīng)當(dāng)理解的是，提供這些實(shí)施例是為了使得本發(fā)明的公開徹底且完整，并且將這些示例性具體實(shí)施例的技術(shù)方案充分傳達(dá)給本領(lǐng)域技術(shù)人員。如圖1所示，本發(fā)明提供的光刻膠剝離去除方法主要實(shí)施例，用于半導(dǎo)體制造工藝中，可應(yīng)用于包括但不限于mos、finfet等所有現(xiàn)有技術(shù)中涉及光刻膠剝離去除的生產(chǎn)步驟，主要包括以下步驟:s1，在半導(dǎo)體襯底上淀積介質(zhì)層；s2，旋涂光刻膠并曝光顯影，形成光刻圖形阻擋層；s3，執(zhí)行離子注入：s4，采用氮?dú)浠旌蠚怏w執(zhí)行等離子刻蝕，對(duì)光刻膠進(jìn)行干法剝離；s5，對(duì)襯底表面進(jìn)行清洗。本發(fā)明刻膠剝離...

本發(fā)明涉及半導(dǎo)體制造領(lǐng)域，特別是涉及一種用于包括但不限于半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中光刻膠去除步驟的光刻膠剝離去除方法。背景技術(shù)：光刻膠是一大類具有光敏化學(xué)作用(或?qū)﹄娮幽芰棵舾?的高分子聚合物材料，是轉(zhuǎn)移紫外曝光或電子束曝照?qǐng)D案的媒介。光刻膠的也稱為光致抗蝕劑、光阻等，其作用是作為抗刻蝕層保護(hù)襯底表面。光刻膠廣泛應(yīng)用于集成電路(ic)、封裝(packaging)、微機(jī)電系統(tǒng)(mems)、光電子器件光子器件(optoelectronics/photonics)、平板顯示其(led、lcd、oled)和太陽能光伏(solarpv)等領(lǐng)域。在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域，離子注入層光刻膠(參考圖2)在經(jīng)過高劑量或大分子量的...

光刻作為IC制造的關(guān)鍵一環(huán)常常被人重視，但是光刻膠都是作為層被去掉的，如何快速、干凈的去除工藝后的光刻膠是一個(gè)經(jīng)常被疏忽的問題，但是很重要，直接影響了產(chǎn)品質(zhì)量。如何快速有效的去除光刻膠。筆者**近就碰到一些去膠的問題，比如正膠和負(fù)膠去除需要的工藝有差別。去膠工藝還和光刻膠受過什么樣的工藝處理有關(guān)，比如ICPRIE之后的光刻膠、還有濕法腐蝕后的光刻膠。市面上針對(duì)光刻膠去除的特殊配方的去膠液有很多種，但需要根據(jù)自身產(chǎn)品特性加以選擇。在做砷化鎵去除光阻的案例，砷化鎵是一種化合物半導(dǎo)體材料，分子式GaAs。立方晶系閃鋅礦結(jié)構(gòu)，即由As和Ga兩種原子各自組成面心立方晶格套構(gòu)而成的復(fù)式晶格，其晶格常數(shù)是。...

閥門開關(guān)60設(shè)置在每一子管道301上。在一些實(shí)施例中，閥門開關(guān)60設(shè)置在每一子管道401及每一所述第二子管道502上。在一些實(shí)施例中，閥門開關(guān)60設(shè)置在每一第二子管道502上。具體的，閥門開關(guān)60的設(shè)置位置可以設(shè)置在連接過濾器30的任意管道上，在此不做贅述。在一些實(shí)施例中，請(qǐng)參閱圖4，圖4為本申請(qǐng)實(shí)施例提供的剝離液機(jī)臺(tái)100的第四種結(jié)構(gòu)示意圖。第二管道50包括多個(gè)第三子管道503，每一所述第三子管道503與一子過濾器連通301，且每一所述第三子管道503與所述下一級(jí)腔室連通102。其中，閥門開關(guān)60設(shè)置在每一第三子管道503上。本申請(qǐng)實(shí)施例提供的剝離液機(jī)臺(tái)，包括：依次順序排列的多級(jí)腔室、每一級(jí)...

形成帶有沉淀物的固液混合物，打開一級(jí)過濾罐進(jìn)料管路上的電磁閥18，固液混合物進(jìn)入一級(jí)過濾罐16的過濾筒中，先由一級(jí)過濾罐16的過濾筒過濾得到一級(jí)線性酚醛樹脂，濾液由提升泵6送往攪拌釜的循環(huán)料口7，往復(fù)3次數(shù)后，一級(jí)線性酚醛樹脂回收完成，關(guān)閉一級(jí)過濾罐進(jìn)料管路上的電磁閥18，利用提升泵6將一級(jí)過濾罐16中濾液抽取到攪拌釜10內(nèi)備用；2、向攪拌釜10中輸入酸性溶液，與前述濾液充分?jǐn)嚢杌旌显俅挝龀龀恋砦铮炊?jí)線性酚醛樹脂，利用ph計(jì)檢測(cè)溶液ph值，當(dāng)達(dá)到5-7范圍內(nèi)即可，打開二級(jí)過濾罐13進(jìn)料管路上的電磁閥17，帶有沉淀物的混合液進(jìn)入二級(jí)過濾罐13中，由其中的過濾筒過濾得到二級(jí)線性酚醛樹脂，廢液二...

可選擇的，旋涂光刻膠厚度范圍為1000埃～10000埃。s3，執(zhí)行離子注入：可選擇的，離子注入劑量范圍為1×1013cm-2～1×1016cm-2。s4，采用氮?dú)浠旌蠚怏w執(zhí)行等離子刻蝕，對(duì)光刻膠進(jìn)行干法剝離；如背景技術(shù)中所述，經(jīng)過高劑量或大分子量的源種注入后，會(huì)在光刻膠的外層形成一層硬殼即為主要光刻膠層，主要光刻膠層包裹在第二光刻膠層外。使氮?dú)浠旌蠚怏w與光刻膠反應(yīng)生成含氨揮發(fā)性化合物氣體，反應(yīng)速率平穩(wěn)，等離子體氮?dú)浠旌蠚怏w與主要光刻膠層、第二光刻膠層的反應(yīng)速率相等。等離子體氮?dú)浠旌蠚怏w先剝離去除主要光刻膠層，參考圖8所示。再逐步剝離去除第二光刻膠層，參考圖9和圖10所示?？蛇x的，等離子刻蝕氣體...

隨著電子元器件制作要求的提高，相關(guān)行業(yè)應(yīng)用對(duì)濕電子化學(xué)品純度的要求也不斷提高。為了適應(yīng)電子信息產(chǎn)業(yè)微處理工藝技術(shù)水平不斷提高的趨勢(shì)，并規(guī)范世界超凈高純?cè)噭┑臉?biāo)準(zhǔn)，國(guó)際半導(dǎo)體設(shè)備與材料組織（SEMI）將濕電子化學(xué)品按金屬雜質(zhì)、控制粒徑、顆粒個(gè)數(shù)和應(yīng)用范圍等指標(biāo)制定國(guó)際等級(jí)分類標(biāo)準(zhǔn)。濕電子化學(xué)品在各應(yīng)用領(lǐng)域的產(chǎn)品標(biāo)準(zhǔn)有所不同，光伏太陽能電池領(lǐng)域一般只需要G1級(jí)水平；平板顯示和LED領(lǐng)域?qū)耠娮踊瘜W(xué)品的等級(jí)要求為G2、G3水平；半導(dǎo)體領(lǐng)域中，集成電路用濕電子化學(xué)品的純度要求較高，基本集中在G3、G4水平，分立器件對(duì)濕電子化學(xué)品純度的要求低于集成電路，基本集中在G2級(jí)水平。一般認(rèn)為，產(chǎn)生集成電路斷絲、...

光電行業(yè)的大力發(fā)展，致使剝離液被國(guó)內(nèi)外研究人員所關(guān)注及研究，雖然在**網(wǎng)及技術(shù)網(wǎng)上對(duì)剝離液的闡述較少，但當(dāng)前國(guó)內(nèi)與國(guó)外均在剝離液廢液如何利用及處置方面有了一定的成果，。美國(guó)專利US7273560公布了包含單乙醇胺與二乙二醇單丁醚組合的光刻膠剝離液廢液中含有、77%的二乙二醇單丁醚、3%的光刻膠和。現(xiàn)有技術(shù)***采用的光刻膠剝離液廢液回收方法通常是通過薄膜蒸發(fā)器回收大部分的有機(jī)成分，回收得到的有機(jī)組分或再經(jīng)脫色脫水等處理后可再次作為光刻膠剝離液應(yīng)用。這種方法雖然流程簡(jiǎn)便，但在使用薄膜蒸發(fā)器蒸發(fā)溶劑過程中，光刻膠濃度達(dá)到一定程度后其傳熱傳質(zhì)效率快速下降，使溶劑回收效率大為降低，處理能耗***升高。...

本發(fā)明涉及化學(xué)制劑技術(shù)領(lǐng)域：，特別涉及一種用于疊層晶圓的光刻膠剝離液。背景技術(shù)：：隨著半導(dǎo)體制造技術(shù)以及立體封裝技術(shù)的不斷發(fā)展，電子器件和電子產(chǎn)品對(duì)多功能化和微型化的要求越來越高。在這種小型化趨勢(shì)的推動(dòng)下，要求芯片的封裝尺寸不斷減小。3d疊層粉妝技術(shù)的封裝體積小，立體空間大，引線距離短，信號(hào)傳輸快，所以能夠更好地實(shí)現(xiàn)封裝的微型化。晶圓疊層是3d疊層封裝的一種形式。疊層晶圓在制造的過程中會(huì)對(duì)**外層的晶圓表面進(jìn)行顯影蝕刻，當(dāng)中會(huì)用到光刻膠剝離液。好的剝離液的標(biāo)準(zhǔn)是什么。池州ITO蝕刻液剝離液價(jià)格避免接觸皮膚、眼睛和衣服；存儲(chǔ)：密閉存放在陰涼干燥的地方8.防燥和人員保護(hù)極限N-Methyl-2-p...

按照組成成分和應(yīng)用工藝不同，濕電子化學(xué)品可分為通用性和功能性濕電子化學(xué)品。通用濕電子化學(xué)品以超凈高純?cè)噭橹?，一般為單組份、單功能、被大量使用的液體化學(xué)品，按照性質(zhì)劃分可分為：酸類、堿類、有機(jī)溶劑類和其他類。酸類包括氫氟酸、硝酸、鹽酸、硫酸、磷酸等；堿類包括氨水、氫氧化鈉、氫氧化鉀等；有機(jī)溶劑類包括甲醇、乙醇、異丙醇、**、乙酸乙酯等；其他類包括雙氧水等。功能濕電子化學(xué)品指通過復(fù)配手段達(dá)到特殊功能、滿足制造中特殊工藝需求的復(fù)配類化學(xué)品，即在單一的超凈高純?cè)噭ɑ蚨喾N超凈高純?cè)噭┑呐浜希┗A(chǔ)上，加入水、有機(jī)溶劑、螯合劑、表面活性劑混合而成的化學(xué)品。例如剝離液、顯影液、蝕刻液、清洗液等。由于多數(shù)功...

本發(fā)明涉及化學(xué)制劑技術(shù)領(lǐng)域：，特別涉及一種用于疊層晶圓的光刻膠剝離液。背景技術(shù)：：隨著半導(dǎo)體制造技術(shù)以及立體封裝技術(shù)的不斷發(fā)展，電子器件和電子產(chǎn)品對(duì)多功能化和微型化的要求越來越高。在這種小型化趨勢(shì)的推動(dòng)下，要求芯片的封裝尺寸不斷減小。3d疊層粉妝技術(shù)的封裝體積小，立體空間大，引線距離短，信號(hào)傳輸快，所以能夠更好地實(shí)現(xiàn)封裝的微型化。晶圓疊層是3d疊層封裝的一種形式。疊層晶圓在制造的過程中會(huì)對(duì)**外層的晶圓表面進(jìn)行顯影蝕刻，當(dāng)中會(huì)用到光刻膠剝離液。專業(yè)配方，博洋剝離液是您的明智之選。池州哪家蝕刻液剝離液溶劑本發(fā)明涉及剝離液技術(shù)領(lǐng)域：，更具體的說是涉及一種高世代面板銅制程光刻膠剝離液。背景技術(shù)：：電...

本發(fā)明涉及剝離液技術(shù)領(lǐng)域：，更具體的說是涉及一種高世代面板銅制程光刻膠剝離液。背景技術(shù)：：電子行業(yè)飛速發(fā)展，光刻膠應(yīng)用也越來越。在半導(dǎo)體元器件制造過程中，經(jīng)過涂敷-顯影-蝕刻過程，在底層金屬材料上蝕刻出所需線條之后，必須在除去殘余光刻膠的同時(shí)不能損傷任何基材，才能再進(jìn)行下道工序。因此，光刻膠的剝離質(zhì)量也有直接影響著產(chǎn)品的質(zhì)量。但是傳統(tǒng)光刻膠剝離液雖然能剝離絕大部分光阻，但對(duì)于高世代面板(高世代面板是代指大尺寸的液晶面板)，傳統(tǒng)剝離液親水性不夠，水置換能力較差，容易造成面板邊緣光刻膠殘留。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：本發(fā)明的目的是提供一種高世代面板銅制程光刻膠剝離液。為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明采用如下技術(shù)方案：...

在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。圖1為本申請(qǐng)實(shí)施例提供的剝離液機(jī)臺(tái)的種結(jié)構(gòu)示意圖。圖2為本申請(qǐng)實(shí)施例提供的剝離液機(jī)臺(tái)的第二種結(jié)構(gòu)示意圖。圖3為本申請(qǐng)實(shí)施例提供的剝離液機(jī)臺(tái)的第三種結(jié)構(gòu)示意圖。圖4為本申請(qǐng)實(shí)施例提供的剝離液機(jī)臺(tái)的第四種結(jié)構(gòu)示意圖。圖5為本申請(qǐng)實(shí)施例提供的剝離液機(jī)臺(tái)的工作方法的流程示意圖。具體實(shí)施方式目前剝離液機(jī)臺(tái)在工作時(shí)，如果過濾剝離光阻時(shí)產(chǎn)生的薄膜碎屑的過濾器被阻塞，則需要?jiǎng)冸x液機(jī)臺(tái)內(nèi)的所有工作單元，待被阻塞的過濾器被清理后，才能重新進(jìn)行剝離制程，使得機(jī)臺(tái)需頻繁停線以更換過濾器，極大的降低了生產(chǎn)效率。請(qǐng)參閱圖1，圖1為本申請(qǐng)實(shí)施例提供的過濾液機(jī)臺(tái)1...

能夠增強(qiáng)親水性，使得剝離液親水性良好，能快速高效地剝離溶解光刻膠。潤(rùn)濕劑含有羥基，為聚乙二醇、甘油中的任意一種。下面通過具體實(shí)施例對(duì)本申請(qǐng)作進(jìn)一步詳細(xì)說明。以下實(shí)施例對(duì)本申請(qǐng)進(jìn)行進(jìn)一步說明，不應(yīng)理解為對(duì)本申請(qǐng)的限制。表一：兩種不同組分的剝離液配方一和配方二所采用的基礎(chǔ)組分基本相同，不同的是配方二中加入有潤(rùn)濕劑，上述所描述的潤(rùn)濕劑是用于增強(qiáng)親水性的，滴液與產(chǎn)品表面間的夾角為接觸角，接觸角可用來衡量潤(rùn)濕程度，水滴角測(cè)試儀可測(cè)量接觸角，從潤(rùn)濕角度考慮，接觸角＜90°，且接觸角越小潤(rùn)濕效果越好加入潤(rùn)濕劑后的配方二所制得的剝離液，在滴落在高世代面板后，通過水滴角測(cè)試儀測(cè)接觸角，檢測(cè)圖如圖1所示，三次測(cè)試...

利用提升泵將一級(jí)過濾罐中濾液抽取到攪拌釜內(nèi)；再向攪拌釜中輸入沉淀劑，如酸性溶液，與前述濾液充分?jǐn)嚢杌旌显俅挝龀龀恋砦铮炊?jí)線性酚醛樹脂，打開二級(jí)過濾罐進(jìn)料管路上的電磁閥，帶有沉淀物的混合液進(jìn)入二級(jí)過濾罐中，由其中的過濾筒過濾得到二級(jí)線性酚醛樹脂，廢液二級(jí)過濾罐底部的廢液出口流出，送往剝離成分處理系統(tǒng)。上述過濾得到的一級(jí)線性酚醛樹脂可用于光刻膠產(chǎn)品的原料，而二級(jí)線性酚醛樹脂可用于其他場(chǎng)合。綜上，實(shí)現(xiàn)了對(duì)光刻膠樹脂的充分的回收利用，回收率得到提高。附圖說明圖1是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2是過濾筒的結(jié)構(gòu)示意圖。具體實(shí)施方式如圖1、圖2所示，該光刻膠廢剝離液回收裝置，包括攪拌釜10和與攪拌釜10連...

從而可以在閥門開關(guān)60關(guān)閉后取下被阻塞的過濾器30進(jìn)行清理并不會(huì)導(dǎo)致之后的下一級(jí)腔室102的剝離進(jìn)程無法繼續(xù)。其中，腔室10用于按照處于剝離制程的玻璃基板的傳送方向逐級(jí)向玻璃基板分別提供剝離液；與多個(gè)腔室10分別對(duì)應(yīng)連接的多個(gè)存儲(chǔ)箱20，各級(jí)腔室10分別通過管道與相應(yīng)的存儲(chǔ)箱20連接，存儲(chǔ)箱20用于收集和存儲(chǔ)來自當(dāng)前級(jí)腔室101的經(jīng)歷剝離制程的剝離液；過濾器30用于過濾來自當(dāng)前級(jí)腔室101的存儲(chǔ)箱20的剝離液，并且過濾器30還可以通過管道與下一級(jí)腔室102連接，從而過濾器30可以將過濾后的剝離液輸送給下一級(jí)腔室102。各腔室10設(shè)計(jì)為適合進(jìn)行剝離制程，用于向制程中的玻璃基板供給剝離液，具體結(jié)構(gòu)...

采用此方法可以制備出負(fù)性光刻膠所能制備的任意結(jié)構(gòu)，同時(shí)相比于傳統(tǒng)的加工，本方案加工效率可以提高上千倍，且圖形的結(jié)構(gòu)越大相對(duì)的加工效率越高。本發(fā)明為微納制造領(lǐng)域，光學(xué)領(lǐng)域，電學(xué)領(lǐng)域，聲學(xué)領(lǐng)域，生物領(lǐng)域，mems制造，nems制造，集成電路等領(lǐng)域提供了一種新的有效的解決方案。附圖說明圖1為本發(fā)明制備用電子束在pmma上曝光出圓形陣列的輪廓；圖2為本發(fā)明用黏貼層撕走pmma輪廓以外的結(jié)構(gòu)后得到的圓形柱狀陣列；圖3為實(shí)施例1步驟三的結(jié)構(gòu)圖；圖4為實(shí)施例1步驟四的結(jié)構(gòu)圖；圖5為實(shí)施例1步驟五的結(jié)構(gòu)圖；圖6為實(shí)施例1步驟六的結(jié)構(gòu)圖。具體實(shí)施方式為了使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚，下面將結(jié)合附圖對(duì)本...

每一所述第二子管道502與所述公共子管道501連通，所述公共子管道501與所述下一級(jí)腔室102連通。其中，閥門開關(guān)60設(shè)置在每一子管道301上。在一些實(shí)施例中，閥門開關(guān)60設(shè)置在每一***子管道401及每一所述第二子管道502上。在一些實(shí)施例中，閥門開關(guān)60設(shè)置在每一第二子管道502上。具體的，閥門開關(guān)60的設(shè)置位置可以設(shè)置在連接過濾器30的任意管道上，在此不做贅述。在一些實(shí)施例中，請(qǐng)參閱圖4，圖4為本申請(qǐng)實(shí)施例提供的剝離液機(jī)臺(tái)100的第四種結(jié)構(gòu)示意圖。第二管道50包括多個(gè)第三子管道503，每一所述第三子管道503與一子過濾器連通301，且每一所述第三子管道503與所述下一級(jí)腔室連通102。其...

所述抽真空氣體修飾法包括如下步驟：將將襯底和光刻膠抗粘劑置于密閉空間中，對(duì)密閉空間抽真空至光刻膠抗粘層氣化，保持1分鐘以上，直接取出襯底。進(jìn)一步的改進(jìn)，所述襯底為硅、氧化硅、石英、玻璃、氮化硅、碳化硅、鈮酸鋰、金剛石、藍(lán)寶石或ito制成。進(jìn)一步的改進(jìn)，所述步驟(2)對(duì)襯底修飾的試劑包括hmds和十三氟正辛基硅烷；對(duì)襯底修飾的試劑鍍?cè)谝r底表面。進(jìn)一步的改進(jìn)，所述所述光刻膠包括pmma,zep，瑞紅膠，az膠，納米壓印膠和光固化膠。進(jìn)一步的改進(jìn)，所述光刻膠厚度為1nm-100mm進(jìn)一步的改進(jìn)，所述光刻膠上加工出所需結(jié)構(gòu)的輪廓的方法為電子束曝光，離子束曝光，聚焦離子束曝光，重離子曝光，x射線曝光，等...

含有的胺化合物的質(zhì)量分為：1％-2％。進(jìn)一步技術(shù)方案中，所述的添加劑中含有醇醚化合物的質(zhì)量分為：30％-50％；含有胺化合物的質(zhì)量分為：35％-55％；含有緩蝕劑的質(zhì)量分為：6％-12％；含有潤(rùn)濕劑的質(zhì)量分為：1％-7％。進(jìn)一步技術(shù)方案中，所述的步驟s1中剝離液廢液所含的酰胺化合物以及步驟s2中添加劑所含的酰胺化合物均為n-甲基甲酰胺(nmf)、n-甲基乙酰胺、n，n-二甲基甲酰胺中的一種或者多種。進(jìn)一步技術(shù)方案中，所述的步驟s1中剝離液廢液所含的醇醚化合物以及步驟s2中添加劑所含的醇醚化合物均為二乙二醇丁醚(bdg)、二乙二醇甲醚、乙二醇甲醚、乙二醇乙醚中的一種或多種。進(jìn)一步技術(shù)方案中，所述...

高世代面板)表面上，或透入其表面，而把固體物料潤(rùn)濕，剝離液親水性良好，能快速高效地剝離溶解光刻膠。因此，本申請(qǐng)中的高世代面板銅制程光刻膠剝離液由酰胺、醇醚、環(huán)胺與鏈胺、緩蝕劑、潤(rùn)濕劑組成。其中，酰胺可以為n-甲基甲酰胺、n-甲基乙酰胺、n，n-二甲基甲酰胺中的任意一種或多種，酰胺是用于溶解光刻膠；n-甲基甲酰胺下面簡(jiǎn)稱″nmf″醇醚為二乙二醇丁醚、二乙二醇甲醚、乙二醇甲醚、乙二醇乙醚中的任意一種或多種，醇醚是用于潤(rùn)濕、膨潤(rùn)、溶解光刻膠的；二乙二醇丁醚下面簡(jiǎn)稱″bdg″。環(huán)胺與鏈胺，用于滲透、斷開光刻膠分子間弱結(jié)合力；鏈胺：分子量的大小決定瞬間溶解力，分子量過大瞬間溶解力小，光刻膠未被完全溶解；...

能夠增強(qiáng)親水性，使得剝離液親水性良好，能快速高效地剝離溶解光刻膠。潤(rùn)濕劑含有羥基，為聚乙二醇、甘油中的任意一種。下面通過具體實(shí)施例對(duì)本申請(qǐng)作進(jìn)一步詳細(xì)說明。以下實(shí)施例對(duì)本申請(qǐng)進(jìn)行進(jìn)一步說明，不應(yīng)理解為對(duì)本申請(qǐng)的限制。表一：兩種不同組分的剝離液配方一和配方二所采用的基礎(chǔ)組分基本相同，不同的是配方二中加入有潤(rùn)濕劑，上述所描述的潤(rùn)濕劑是用于增強(qiáng)親水性的，滴液與產(chǎn)品表面間的夾角為接觸角，接觸角可用來衡量潤(rùn)濕程度，水滴角測(cè)試儀可測(cè)量接觸角，從潤(rùn)濕角度考慮，接觸角＜90°，且接觸角越小潤(rùn)濕效果越好加入潤(rùn)濕劑后的配方二所制得的剝離液，在滴落在高世代面板后，通過水滴角測(cè)試儀測(cè)接觸角，檢測(cè)圖如圖1所示，三次測(cè)試...

所述功能切換口外部并聯(lián)有高純水輸入管線和沉淀劑輸入管線，所述二級(jí)過濾罐的底部設(shè)有廢液出口，所述一級(jí)過濾罐和二級(jí)過濾罐內(nèi)部均懸設(shè)有攔截固體成分的過濾筒。上述的光刻膠廢剝離液回收裝置，所述一級(jí)過濾罐和二級(jí)過濾罐的結(jié)構(gòu)相同，均由外殼、懸設(shè)于外殼內(nèi)的過濾筒、扣裝于過濾筒頂部的壓蓋組成，所述壓蓋中心設(shè)有對(duì)應(yīng)進(jìn)料管路的通孔，所述過濾筒由均勻布設(shè)多孔的支撐筒體、設(shè)于支撐筒體內(nèi)表面的金屬濾網(wǎng)、設(shè)于金屬濾網(wǎng)表面的纖維濾布組成，所述支撐筒體的上沿伸出外殼頂部并利用水平翻邊支撐于外殼上表面，所述金屬濾網(wǎng)的上沿設(shè)有與支撐筒體的水平翻邊扣合的定位翻邊，所述支撐筒體的底面為向筒體內(nèi)側(cè)凹陷的錐面。上述的光刻膠廢剝離液回收裝...

所述功能切換口外部并聯(lián)有高純水輸入管線和沉淀劑輸入管線，所述二級(jí)過濾罐的底部設(shè)有廢液出口，所述一級(jí)過濾罐和二級(jí)過濾罐內(nèi)部均懸設(shè)有攔截固體成分的過濾筒。上述的光刻膠廢剝離液回收裝置，所述一級(jí)過濾罐和二級(jí)過濾罐的結(jié)構(gòu)相同，均由外殼、懸設(shè)于外殼內(nèi)的過濾筒、扣裝于過濾筒頂部的壓蓋組成，所述壓蓋中心設(shè)有對(duì)應(yīng)進(jìn)料管路的通孔，所述過濾筒由均勻布設(shè)多孔的支撐筒體、設(shè)于支撐筒體內(nèi)表面的金屬濾網(wǎng)、設(shè)于金屬濾網(wǎng)表面的纖維濾布組成，所述支撐筒體的上沿伸出外殼頂部并利用水平翻邊支撐于外殼上表面，所述金屬濾網(wǎng)的上沿設(shè)有與支撐筒體的水平翻邊扣合的定位翻邊，所述支撐筒體的底面為向筒體內(nèi)側(cè)凹陷的錐面。上述的光刻膠廢剝離液回收裝...

IC去除剝離液MSDS1.產(chǎn)品屬性產(chǎn)品形式：混合溶液產(chǎn)品名稱：ANS-908產(chǎn)品功能描述：用于COG重工，使IC與玻璃無損傷分離2.組成成份化學(xué)名稱CASNo含量%(v)1-METHYL-2-PYRROLIDINONE872-50-445~90N,N-DIMETHYLACETAMIDE127-19-510~58Other12~45SurfactantThickener3.危險(xiǎn)識(shí)別可燃性液體和蒸汽警示標(biāo)識(shí)外觀：透明或微黃氣味：類氨對(duì)人類和環(huán)境的危害：對(duì)眼睛和皮膚有刺激性吸入：會(huì)引起呼吸道受刺激，肝臟、腎受傷害，對(duì)系統(tǒng)有影響攝?。簳?huì)引起呼吸道和消化道刺激長(zhǎng)期接觸：會(huì)引起皮膚傷害4.緊急處理吸入：移...