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本發(fā)明涉及回收處理技術(shù)領(lǐng)域，具體為一種廢銅蝕刻液的回收處理裝置。背景技術(shù)：廢銅蝕刻液含有可回收的金屬，所以需要進行回收處理，目前通用的做法是，使用化學(xué)方法回收廢液內(nèi)的銅，或提煉成硫酸銅產(chǎn)品，工藝落后，銅回收不徹底，處理的經(jīng)濟效益不明顯，有二次污染污染物排放，一旦處理不當(dāng)往外排放，勢必對水體生態(tài)系統(tǒng)造成大的沖擊。市場上的廢銅蝕刻液的回收處理裝置只能簡單的對蝕刻液進行回收處理，不能對蝕刻液進行循環(huán)電解，使得剩余蝕刻液中的銅離子轉(zhuǎn)化不充分，而且蝕刻液導(dǎo)入到電解池中會對電解池造成沖擊，進而影響電解池的使用壽命，并且在回收處理中會產(chǎn)生有害氣體而影響空氣環(huán)境，也不能在回收結(jié)束后對裝置內(nèi)部進行清理，為此，我...

將hno3、四甲基氫氧化銨、h2o2分別投入對應(yīng)的原料罐，備用；第三步：根據(jù)混酸配制表算出各個原料的添加量，按照純水→亞氨基二乙酸→氫氟酸→hno3→四甲基氫氧化銨→乙醇酸的順序依次將原料加入調(diào)配罐，將上述混料充分?jǐn)嚢?，攪拌時間為3～5h；第四步：在第三步的混料中再添加h2o2，繼續(xù)攪拌混勻，攪拌時間為3～5h，用磁力泵將混合液通過過濾器循環(huán)過濾。作為推薦的技術(shù)方案，所述磁力泵出口壓力≤，過濾器入口壓力≤。根據(jù)制備銅蝕刻液的原料確定磁力泵的出口壓力和過濾器的入口壓力，包裝原料可以被充分過濾。作為推薦的技術(shù)方案，所述調(diào)配罐內(nèi)的溫度設(shè)定在30～35℃。調(diào)配罐的溫度不能超過35℃，由于過氧化氫的密度...

技術(shù)實現(xiàn)要素：本實用新型所解決的技術(shù)問題即在于提供一種擋液板結(jié)構(gòu)與以之制備的蝕刻設(shè)備，尤其是指一種適用于濕式蝕刻機的擋液排液功能且增加其透氣性以降低產(chǎn)品損耗的擋液板結(jié)構(gòu)與以之制備的蝕刻設(shè)備，主要借由具有復(fù)數(shù)個宣泄孔的擋液板結(jié)構(gòu)搭配風(fēng)刀裝置的硬體設(shè)計，有效使風(fēng)刀裝置吹出的氣體得以經(jīng)由宣泄孔宣泄，并利用水滴的表面張力現(xiàn)象防止水滴由宣泄孔落下造成基板顯影不均等異?，F(xiàn)象，確實達(dá)到保有原始擋液板的擋液效果，以及增加透氣性以破除真空以減少因真空吸板導(dǎo)致的基板刮傷或破片風(fēng)險等主要優(yōu)勢。本實用新型所采用的技術(shù)手段如下所述。為了達(dá)到上述的實施目的，本實用新型提出一種擋液板結(jié)構(gòu)，適用于一濕式蝕刻機，擋液板結(jié)構(gòu)包括...

ITO顯影劑也稱為造影劑或?qū)Ρ葎且环NX光無法穿透的藥劑，用于讓體內(nèi)組織在X光檢查時能看得更清楚。例如消化道攝影時，醫(yī)師會讓患者喝下一杯顯影劑溶液（大多含鋇），然后用各種角度照相，就能讓胃腸道看得很清楚。如果顯影只是在光強較大的地方產(chǎn)生游離銀，而對底片不做進一步處理，則把它一拿出暗室，未顯影的鹵化銀就會立刻曝光。此后，幾乎任何還原劑都將使底片完全形成灰霧。為了克服這個問題，必須找到一種適當(dāng)?shù)奈镔|(zhì)以除去未還原的鹵化銀。黑白照相中較常用的定影液是硫代硫酸鈉溶液。其中的硫代硫酸根離子（S2O32-）與銀離子形成可溶于水的穩(wěn)定配合物，因而達(dá)到“固定”底片的目的。ITO顯影液的市場需求會隨著電子行業(yè)的...

當(dāng)該風(fēng)刀裝置40的***風(fēng)刀41與該第二風(fēng)刀42為了減少該基板20上所殘留的藥液51而吹出該氣體43時，該氣體43碰到該擋液板結(jié)構(gòu)10后部分會往該復(fù)數(shù)個宣泄孔121流動，并朝向該第二擋板12的該上表面123宣泄而出，除了保有原有擋液板的防止該藥液51噴濺而造成的蝕刻不均現(xiàn)象，亦可達(dá)到以破真空的原理避免該氣體43在該基板20附近形成渦流而造成真空吸引問題；此外，為了避免由該噴灑裝置50噴灑而出的藥液51滴入該基板20上而造成蝕刻不均的問題，因此，該復(fù)數(shù)個宣泄孔121的孔徑a0必須要足夠小，例如：孔徑a0小于3mm，即可因毛細(xì)現(xiàn)象的作用，亦即該水滴于該宣泄孔121孔洞內(nèi)的夾角θ等于該水滴與該第二擋...

本發(fā)明涉及蝕刻液組合物及選擇添加于該蝕刻液組合物的硅烷系偶聯(lián)劑的方法。背景技術(shù)：參照圖1，可以確認(rèn)3dnand閃存(flashmemory)制造工序中的一部分。3dnand閃存可以通過在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*選擇性去除氮化物膜的工序(wetremovalofnitride)來制造。在不損傷氧化物膜的同時將氮化物膜完全去除是這樣的氮化物膜去除工序(wetremovalofnitride)的**技術(shù)之一。一般而言，氮化物膜去除工序中所使用的蝕刻液組合物利用具有防蝕能力的添加劑以獲得在不損傷氧化物膜的同時*將氮化物膜完全去除的效果。但是，想要在不損傷氧化物膜的范圍內(nèi)將氮化物膜完全去除時，會使...

silane)系偶聯(lián)劑和水，上述硅烷系偶聯(lián)劑使上述硅烷系偶聯(lián)劑的反應(yīng)位點(activesite)的數(shù)量除以上述硅烷系偶聯(lián)劑的水解(hydrolysis)了的形態(tài)的分子量之后乘以。此外，提供一種選擇硅烷系偶聯(lián)劑的方法，其是選擇用于在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*選擇性蝕刻上述氮化物膜的蝕刻液組合物的硅烷系偶聯(lián)劑的方法，其特征在于，選擇上述硅烷系偶聯(lián)劑的反應(yīng)位點(activesite)的數(shù)量除以上述硅烷系偶聯(lián)劑的水解(hydrolysis)了的形態(tài)的分子量之后乘以。發(fā)明效果本發(fā)明的蝕刻液組合物提供即使不進行另外的實驗確認(rèn)也能夠選擇在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*選擇性蝕刻氮化物膜的效果和防蝕能力優(yōu)...

目前的平面顯示裝置，尤其是有機電激發(fā)光顯示器，多使用鉻金屬作為導(dǎo)線的材料。但是因為鉻金屬的阻值高，因此研究者一直在尋求利用阻值較低的金屬作為導(dǎo)線的材料。以往曾經(jīng)有提議以銀作為平面顯示裝置的導(dǎo)線材料，但是因為無適當(dāng)穩(wěn)定的蝕刻液組成物，所以并未有***的運用。近幾年為提高平面顯示裝置的效能，研究者仍專注于如何降低導(dǎo)線材料的電阻值。銀合金目前被視為適當(dāng)?shù)膶?dǎo)線材料，因其阻值低于其他的金屬。此外，含銀量超過80％以上的銀合金，雖然阻值未若銀金屬一般低，但是其阻值遠(yuǎn)低于鉻金屬。然而由于銀合金未具有適當(dāng)?shù)奈g刻液，所以并沒有廣泛應(yīng)用于晶片或面板的黃光制程。發(fā)明人爰因于此，本于積極發(fā)明的精神，亟思一種可以解決上...

從蝕刻速度及安全性的觀點來看，推薦為40℃至70℃，更推薦為45℃至55℃。處理時間視對象物的表面狀態(tài)及形狀等而變化，通常為30秒至120秒左右。實施例然后，對本發(fā)明的實施例與比較例一起進行說明。此外，本發(fā)明并非限定于下述實施例而解釋。制備表1及表2所示的組成的各蝕刻液，在下述條件下進行蝕刻試驗及蝕刻液的穩(wěn)定性試驗。此外，表1及表2所示的組成的各蝕刻液中，剩余部分為離子交換水。另外，表1及表2所示的鹽酸的濃度為以氯化氫計的濃度。(蝕刻試驗)通過濺鍍法在樹脂上形成50nm的鈦膜，然后成膜200nm的銅膜，進而通過電鍍銅在該銅膜上形成圖案，將所得的基板用作試樣。使用銅的蝕刻液，將試樣的濺鍍銅膜溶解...

伸縮桿12下端固定安裝有圓環(huán)塊13，圓環(huán)塊13與噴頭10之間固定連接有連接桿14，分隔板2與承載板3相互垂直設(shè)置，電解池4內(nèi)部底端的傾斜角度設(shè)計為5°，進液管8的形狀設(shè)計為l型，且進液管8貫穿分隔板2設(shè)置在進液漏斗6與伸縮管9之間，圓環(huán)塊13通過伸縮桿12活動安裝在噴頭10上方，且噴頭10通過伸縮管9活動安裝在電解池4上方，通過設(shè)置有伸縮管9與伸縮桿12，能夠在蝕刻液通過進液管8流入到電解池4中時，啟動液壓缸11帶動伸縮桿12向上移動，從而通過圓環(huán)塊13配合伸縮管9帶動噴頭10向上移動，進而將蝕刻液緩慢的由噴頭10噴入到電解池4中，避免蝕刻液對電解池4造成沖擊而影響其使用壽命，具有保護電解池4...

ITO顯影劑也稱為造影劑或?qū)Ρ葎且环NX光無法穿透的藥劑，用于讓體內(nèi)組織在X光檢查時能看得更清楚。例如消化道攝影時，醫(yī)師會讓患者喝下一杯顯影劑溶液（大多含鋇），然后用各種角度照相，就能讓胃腸道看得很清楚。如果顯影只是在光強較大的地方產(chǎn)生游離銀，而對底片不做進一步處理，則把它一拿出暗室，未顯影的鹵化銀就會立刻曝光。此后，幾乎任何還原劑都將使底片完全形成灰霧。為了克服這個問題，必須找到一種適當(dāng)?shù)奈镔|(zhì)以除去未還原的鹵化銀。黑白照相中較常用的定影液是硫代硫酸鈉溶液。其中的硫代硫酸根離子（S2O32-）與銀離子形成可溶于水的穩(wěn)定配合物，因而達(dá)到“固定”底片的目的。ITO顯影液的市場需求會隨著電子行業(yè)的...

對本實用新型實施例中的技術(shù)方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例是本實用新型一部分實施例，而不是全部的實施例，基于本實用新型中的實施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本實用新型保護的范圍。實施例一，請參閱圖1-4，本實用新型提供技術(shù)方案：高蝕刻速率無殘留酸性鋁蝕刻液生產(chǎn)裝置，包括裝置主體1、支撐腿2、電源線3和單片機4，裝置主體1的底端固定連接有支撐腿2，裝置主體1的后面一側(cè)底部固定連接有電源線3，裝置主體1的一側(cè)中間部位固定連接有控制器5，裝置主體1的內(nèi)部底端一側(cè)固定連接有單片機4，裝置主體1的頂部一端固定連接有去離子水儲罐14，裝置主體1...

所述裝置主體前端表面靠近左上邊角位置設(shè)置有活動板，所述分隔板右端放置有蓄水箱，所述蓄水箱上端靠近右側(cè)連接有進水管，所述回流管下端連接有抽水管，所述抽水管內(nèi)部上端設(shè)置有三號電磁閥，所述裝置主體前端表面靠近右側(cè)安裝有控制面板。作為本發(fā)明的進一步方案，所述分隔板與承載板相互垂直設(shè)置，所述電解池內(nèi)部底端的傾斜角度設(shè)計為5°。作為本發(fā)明的進一步方案，所述進液管的形狀設(shè)計為l型，且進液管貫穿分隔板設(shè)置在進液漏斗與伸縮管之間。作為本發(fā)明的進一步方案，所述圓環(huán)塊通過伸縮桿活動安裝在噴頭上方，且噴頭通過伸縮管活動安裝在電解池上方。作為本發(fā)明的進一步方案，所述回流管與進水管的形狀均設(shè)計為l型，所述傾斜板的傾斜角度...

負(fù)的值表示厚度減小。上述蝕刻液組合物以在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*選擇性蝕刻上述氮化物膜為特征，上述氧化物膜推薦包含sio2，上述氮化物膜推薦包含sin。上述蝕刻液組合物用于3dnand閃存制造工序，能夠使上述氮化物膜去除工序中發(fā)生的副反應(yīng)氧化物的殘留和氧化物膜損傷不良問題**少化。本發(fā)明的蝕刻液組合物包含如上選擇的添加劑，在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*選擇性蝕刻氮化物膜時，能夠使因副反應(yīng)氧化物的殘留時間變長而氮化物膜未被完全去除的不良(參照圖2)以及氮化物膜雖被完全去除但也造成氧化物膜損傷(damage)的工序不良(參照圖3)的發(fā)生**少化。因副反應(yīng)氧化物的殘留時間變長而氮化物膜未被完...

本實用新型有關(guān)于一種擋液板結(jié)構(gòu)與以之制備的蝕刻設(shè)備，尤其是指一種適用于濕式蝕刻機的擋液排液功能且增加其透氣性以降低產(chǎn)品損耗的擋液板結(jié)構(gòu)與以之制備的蝕刻設(shè)備。背景技術(shù)：請參閱圖1所示，為傳統(tǒng)擋液板結(jié)構(gòu)的整體設(shè)置示意圖，其中一實心pvc板態(tài)樣的擋液板結(jié)構(gòu)a設(shè)置于一濕式蝕刻機(圖式未標(biāo)示)內(nèi)，主要用以阻擋一蝕刻藥液(圖式未標(biāo)示)對設(shè)置于該擋液板結(jié)構(gòu)a下方的基板(圖式未標(biāo)示)的噴濺而造成蝕刻不均勻的現(xiàn)象，并且在濕式蝕刻的制程步驟中，該基板設(shè)置于二風(fēng)刀b之間，當(dāng)該基板設(shè)置于一輸送裝置(圖式未標(biāo)示)而由該擋液板結(jié)構(gòu)a的左方接受蝕刻藥液蝕刻后移動至風(fēng)刀b之間，該等風(fēng)刀b再噴出一氣體c到該基板的表面以將該基板...

內(nèi)部頂部兩側(cè)的震蕩彈簧件14，震蕩彈簧件14頂端的運轉(zhuǎn)電機組13，運轉(zhuǎn)電機組13頂端的控制面板15，內(nèi)部中間部位的致密防腐桿16和致密防腐桿16內(nèi)部內(nèi)側(cè)的攪動孔17共同組合而成，由于鹽酸硝酸具有較強的腐蝕性，常規(guī)的攪拌裝置容易被腐蝕，影響蝕刻液的質(zhì)量，用防腐蝕的聚四氟乙烯攪拌漿進行攪拌，成本過高，且混合的效果不好，通過設(shè)置高效攪拌裝置2，該裝置通過運轉(zhuǎn)電機組13驅(qū)動旋轉(zhuǎn)搖勻轉(zhuǎn)盤12，使旋轉(zhuǎn)搖勻轉(zhuǎn)盤12帶動高效攪拌裝置2進行旋轉(zhuǎn)搖勻，同時設(shè)置的震蕩彈簧件14可通過驅(qū)動對高效攪拌裝置2進行震蕩搖勻，高效攪拌裝置2內(nèi)部的蝕刻液通過內(nèi)置的致密防腐桿16，致密防腐桿16內(nèi)部的攪動孔17能夠使蝕刻液不斷細(xì)...

鋁蝕刻液是鋁蝕刻液STM-AL100。根據(jù)查詢相關(guān)信息顯示：鋁蝕刻液STM-AL100是一款專為蝕刻鋁目的去設(shè)計的化學(xué)品，STM-AL100的組成有主要蝕刻化學(xué)品，添加劑，輔助化學(xué)品，對于控制蝕刻均勻以及穩(wěn)定的蝕刻速率一定的效果，在長效性的表現(xiàn)上更是無話可說.在化學(xué)特性上，鋁金屬容易受到酸性以及堿性的化學(xué)品攻擊，本化學(xué)品設(shè)計上為酸性配方且完全可被水溶解，故無須再花額外的成本在廢水處理上.用在生產(chǎn)的用途可以調(diào)整藥液溫度來調(diào)整蝕刻速率，所以本化學(xué)品對于初次使用者來說，是簡單容易上手。BOE蝕刻液廠家直銷價格。揚州江化微的蝕刻液蝕刻液銷售廠如上所述的擋液板結(jié)構(gòu)，其中宣泄孔的孔徑小于3毫米(milli...

鋁板面蝕刻用：酸、堿都行。（鋁板是兩性材料，既能與酸反應(yīng)，又能與堿反應(yīng)，所以腐蝕液有的用堿性材料腐蝕，有的用酸性材料腐蝕，一般情況下，以酸性材料腐蝕的為多，堿性材料可以洗白。下好料的鋁板用棗木碳研磨，去掉油膩、劃痕，磨出啞光表面。然后用絲網(wǎng)版印上紋樣，油墨型號為80-39、80-59、80-49等。這種耐腐蝕油墨細(xì)膩，印出的紋樣質(zhì)量高。印完紋樣后放進電爐內(nèi)烘干，然后用即時貼封住后面，用膠帶封邊，進入腐蝕工藝。鋁板的腐蝕液配方如下：三氯化鐵50%硫酸銅50%水適量，波美度15～20°之間，鋁板腐蝕時應(yīng)平放，在腐蝕的過程中紋樣上溢出赭紅色的滓渣，應(yīng)隨時用毛刷去掉，鋁面上冒出大量泡泡，滓渣隨泡泡浮起...

該擋液板結(jié)構(gòu)10包括有一***擋板11、一與該***擋板11接合的第二擋板12，以及一與該第二擋板12接合的第三擋板13，其主要特征在于：該第二擋板12具有復(fù)數(shù)個貫穿該第二擋板12且錯位設(shè)置的宣泄孔121。該***擋板11與該第二擋板12呈正交設(shè)置，且該第二擋板12與該第三擋板13呈正交設(shè)置，以使該***擋板11、該第二擋板12與該第三擋板13圍設(shè)成一凹槽的態(tài)樣，在一實施例中，該***擋板11、該第二擋板12與該第三擋板13可以為一體成形，其中該第二擋板12的長度h介于10cm至15cm之間，而該等開設(shè)于該第二擋板12上的宣泄孔121可呈千鳥排列或矩陣排列等其中的一種排列的態(tài)樣，且該宣泄孔12...

所述液位計7安裝于所述分離器的外表面。液位計7安裝在方便工作人員查看的位置，有利于提高工作人員工作的效率。在一個實施例中，如圖1所示，所述液位開關(guān)9為控制閥，設(shè)置于所述濾液出口2處?？刂崎y為內(nèi)螺紋截止閥，通過旋轉(zhuǎn)操縱盤實現(xiàn)閥門的開關(guān)，這種閥結(jié)構(gòu)簡單，維修方便，工作行程小，啟閉時間短，使用壽命長。在一個實施例中，如圖2所示，所述分離器的側(cè)壁上設(shè)有多個視鏡10。分離器側(cè)壁上設(shè)置的視鏡10可以幫助工作人員輔助判斷液位計7的工作狀況。在一個實施例中，如圖1所示，所述加熱器11為盤管式加熱器。盤管式加熱器的受熱更加均勻，加熱效率更高。在一個實施例中，如圖1所示，所述分離器底部為錐體形狀。分離器底部設(shè)置成...

故仍舊會有少量的藥液51噴灑在擋液板結(jié)構(gòu)10上而留下該藥液51的水滴，而該藥液51的水滴亦不能落入該基板20上，以避免基板20的蝕刻不均的現(xiàn)象產(chǎn)生；此外，該輸送裝置30用以承載并運送至少一該基板20于該濕式蝕刻機內(nèi)運行，并接受濕式蝕刻的噴灑裝置50的制程運作，故該輸送裝置30具有一驅(qū)動機構(gòu)以驅(qū)動該滾輪31轉(zhuǎn)動，以帶動該基板20由該噴灑裝置50下端部朝向該風(fēng)刀裝置40的該***風(fēng)刀41下端部的方向移動。步驟三s3：使用一設(shè)置于該擋液板結(jié)構(gòu)10下方的風(fēng)刀裝置40對該基板20吹出一氣體43，以使該基板20干燥；在本實用新型其一較佳實施例中，該風(fēng)刀裝置40設(shè)置于該擋液板結(jié)構(gòu)10的一端部，該風(fēng)刀裝置40...

將蝕刻液通過回流管抽入到一號排液管中，并由進液管導(dǎo)入到伸縮管中，直至蝕刻液由噴頭重新噴到電解池中，可以充分的將蝕刻液中的亞銅離子電解轉(zhuǎn)化為金屬銅，起到循環(huán)電解蝕刻液的作用；該回收處理裝置通過設(shè)置有伸縮管與伸縮桿，能夠在蝕刻液通過進液管流入到電解池中時，啟動液壓缸帶動伸縮桿向上移動，從而通過圓環(huán)塊配合伸縮管帶動噴頭向上移動，進而將蝕刻液緩慢的由噴頭噴入到電解池中，避免蝕刻液對電解池造成沖擊而影響其使用壽命，具有保護電解池的功能；該回收處理裝置通過設(shè)置有集氣箱與蓄水箱，能夠在電解蝕刻液結(jié)束后，啟動抽氣泵，將電解池中產(chǎn)生的有害氣體抽入到排氣管并導(dǎo)入到集氣箱中，實現(xiàn)有害氣體的清理，接著啟動增壓泵并打開...

可以充分的將蝕刻液中的亞銅離子電解轉(zhuǎn)化為金屬銅，起到循環(huán)電解蝕刻液的作用；裝置主體1左端表面靠近上端固定安裝有抽氣泵19，抽氣泵19下方設(shè)置有集氣箱21，集氣箱21與抽氣泵19之間連接有排氣管20，電解池4下端連接有二號排液管22，二號排液管22內(nèi)部上端設(shè)置有二號電磁閥23，裝置主體1內(nèi)部底端靠近左側(cè)設(shè)置有傾斜板24，裝置主體1前端表面靠近左上邊角位置設(shè)置有活動板25，分隔板2右端放置有蓄水箱26，蓄水箱26上端靠近右側(cè)連接有進水管27，回流管15下端連接有抽水管28，抽水管28內(nèi)部上端設(shè)置有三號電磁閥29，裝置主體1前端表面靠近右側(cè)安裝有控制面板30，傾斜板24的傾斜角度設(shè)計為10°，活動板...

銅蝕刻液適用于印制版銅的蝕刻，蝕刻速度快。蝕刻速度達(dá)4~5um/min。廢液回收簡單，用于印制板，線路板。本劑也可用于銅工藝品等的蝕刻。蝕刻后的板面平整而光亮。銅蝕刻液的反應(yīng)速度快、使用溫度低、溶液使用壽命長，后處理容易，對環(huán)境污染小。用于銅質(zhì)單面板，雙面板、首飾蝕刻，可以蝕刻出任意精美的形態(tài)，有效提高蝕刻速度，節(jié)約人工水電。常常應(yīng)用于印刷線路板銅的蝕刻處理1、蝕刻速度快，效率高。使用方便。蝕刻速度可達(dá)10微米/分鐘。2、可循環(huán)使用，無廢液排放。1、藍(lán)色透明液體，有氣味。2、比重：1.10~1.13。3、PH值：10~11.0。1、采用浸泡的方法即可，浸泡過程中要攪動蝕刻液或移動工件。蝕刻溫度...

上述硅烷系偶聯(lián)劑的選擇方法的特征在于，選擇上述硅烷系偶聯(lián)劑的反應(yīng)位點(activesite)的數(shù)量除以上述硅烷系偶聯(lián)劑的水解(hydrolysis)形態(tài)的分子量之后乘以。以下，通過實施例更加詳細(xì)地說明本發(fā)明。但是，以下的實施例用于更加具體地說明本發(fā)明，本發(fā)明的范圍并不受以下實施例的限定。實施例和比較例的蝕刻液組合物的制造參照以下表1(重量％)，制造實施例和比較例的蝕刻液組合物。[表1]參照以下表2和圖5，利用實施例和比較例的蝕刻液組合物，對于包含作為氧化物膜sio2和作為上述氧化物膜上的氮化物膜sin的膜的、總厚度的膜進行如下處理。在160℃用硅烷系偶聯(lián)劑％對上述膜處理10,000秒的情況下，...

本實用新型涉及一種鋁蝕刻液生產(chǎn)設(shè)備。背景技術(shù)：鋁蝕刻液生產(chǎn)設(shè)備主要包括混合罐、過濾器和儲存罐，將蝕刻液中的各組份在混合罐混合均勻，由過濾器濾去雜質(zhì)后投入儲存罐中暫存，然后分裝銷售。以往，鋁蝕刻液的分裝由人工操作，隨著自動化技術(shù)的興起，全自動灌裝線在鋁蝕刻液生產(chǎn)企業(yè)得到廣泛應(yīng)用，但是，我司的鋁蝕刻液生產(chǎn)車間面積較小，無法放置自動灌裝線，所以需要對現(xiàn)有的生產(chǎn)設(shè)備進行改造，以實現(xiàn)鋁蝕刻液的全自動灌裝。技術(shù)實現(xiàn)要素：本實用新型提出了一種鋁蝕刻液生產(chǎn)設(shè)備，以解決上述背景技術(shù)中提出的問題。為達(dá)前述目的，本實用新型提供的技術(shù)方案如下：鋁蝕刻液生產(chǎn)設(shè)備，包括混合罐、過濾器、數(shù)個儲存罐、數(shù)輛液壓升降式拖車和地磅...

提高反應(yīng)體系的穩(wěn)定性。當(dāng)體系中加入過氧化氫后有助于提高過氧化氫的穩(wěn)定性，避免由于過氧化氫分解而引發(fā)的，提高生產(chǎn)的安全性。具體實施方式下面結(jié)合實施例，對本發(fā)明的具體實施方式作進一步描述。以下實施例用于更加清楚地說明本發(fā)明的技術(shù)方案，而不能以此來限制本發(fā)明的保護范圍。一種酸性銅蝕刻液的生產(chǎn)工藝，所述工藝包括以下步驟：第一步：將純水進行低溫處理，使純水溫度≤10℃在純水罐中備用；純水罐中設(shè)有通過電路控制的電磁閥，當(dāng)純水溫度高于10℃時，電磁閥無法打開。第二步：配制和準(zhǔn)備原料，將亞氨基二乙酸、氫氟酸和乙醇酸分別投入對應(yīng)的原料罐中，經(jīng)過過濾器循環(huán)過濾，備用；將hno3、四甲基氫氧化銨、h2o2分別投入對...

技術(shù)實現(xiàn)要素：本實用新型的目的在于提供高蝕刻速率無殘留酸性鋁蝕刻液生產(chǎn)裝置，以解決上述背景技術(shù)中提出密封性差，連接安裝步驟繁瑣的問題。為實現(xiàn)上述目的，本實用新型提供如下技術(shù)方案：高蝕刻速率無殘留酸性鋁蝕刻液生產(chǎn)裝置，包括裝置主體、支撐腿、電源線和單片機，所述裝置主體的底端固定連接有支撐腿，所述裝置主體的后面一側(cè)底部固定連接有電源線，所述裝置主體的一側(cè)中間部位固定連接有控制器，所述裝置主體的內(nèi)部底端一側(cè)固定連接有單片機，所述裝置主體的頂部一端固定連接有去離子水儲罐，所述裝置主體的頂部一側(cè)固定連接有磷酸儲罐，所述磷酸儲罐的底部固定連接有攪拌倉，所述攪拌倉的內(nèi)部頂部固定連接有攪拌電機，所述攪拌倉的另...

近年來，oled顯示器廣泛應(yīng)用于手機和平板顯示。金屬銀以優(yōu)異的電導(dǎo)率和載流子遷移率被廣泛應(yīng)用于oled顯示器的陽極布線(ito/ag/ito)結(jié)構(gòu)中。為了對此進行蝕刻，目前主要使用基于磷酸、硝酸、醋酸和硝酸鹽的濕蝕刻液(cna)。這樣的體系雖然能有效去除金屬銀，但在實際使用過程中仍會存在少量的銀殘留或銀再吸附沉積問題。4.本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題在于如何解決現(xiàn)有的銀蝕刻液在使用過程中存在少量的銀殘留、銀再吸附沉積問題。5.本發(fā)明通過以下技術(shù)手段實現(xiàn)解決上述技術(shù)問題的：6.一種銀蝕刻液組合物，其成分由質(zhì)量占比為40-60％磷酸、2-10％硝酸、％有機酸、％硝酸鹽、％含氮元素有機物、其余為水組成。...

本發(fā)明涉及銅蝕刻液技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種酸性銅蝕刻液的生產(chǎn)工藝。背景技術(shù)：高精細(xì)芯片和顯示集成電路主要采用銅制程，其光刻工藝中形成銅膜層結(jié)構(gòu)所需用的銅刻蝕液中主要的為過氧化氫系銅刻蝕液。過氧化氫系銅蝕刻液較其他銅刻蝕液體系(如三氯化鐵體系，過硫酸銨體系)具有不引人其他金屬離子在銅層表面或線路體系中，產(chǎn)物親和、友好、環(huán)境污染少，刻蝕效率高且使用壽命較長的特點。大部分過氧化氫系銅刻蝕液包括參與氧化的過氧化氫組分、參與溶解的無機酸/有機酸組分，以及部分銅緩蝕劑等各類添加三個部分。由于銅蝕刻液中各物質(zhì)的反應(yīng)為放熱反應(yīng)，體系中又含有過氧化氫在制備銅蝕刻液的生產(chǎn)過程中需要保證生產(chǎn)安全。技術(shù)實現(xiàn)要素：本發(fā)明...