發(fā)貨地點(diǎn):廣東省深圳市
發(fā)布時(shí)間:2025-08-12
在科技浪潮奔涌向前的當(dāng)下,深圳市鴻遠(yuǎn)輝科技有限公司推出的觸控屏UVLED解膠機(jī)系列產(chǎn)品,宛如一顆璀璨新星,照亮了半導(dǎo)體制造、光電器件生產(chǎn)、MEMS等領(lǐng)域的精密解膠之路,帶領(lǐng)行業(yè)邁向高效、環(huán)保的新紀(jì)元。該系列產(chǎn)品肩負(fù)著去除晶圓、電子元件等材料表面膠層的關(guān)鍵使命。在半導(dǎo)體制造中,晶圓切割環(huán)節(jié)的解膠精細(xì)度直接影響芯片質(zhì)量,鴻遠(yuǎn)輝的解膠機(jī)憑借超卓性能,成為*產(chǎn)品穩(wěn)定生產(chǎn)的得力伙伴。半導(dǎo)體制造對精度要求極高,晶圓表面膠層處理稍有偏差,就可能導(dǎo)致芯片性能下降。鴻遠(yuǎn)輝的觸控屏UVLED解膠機(jī),以精細(xì)的解膠能力,確保晶圓切割后封裝工序順利進(jìn)行,為芯片的高質(zhì)量生產(chǎn)保駕護(hù)航。UVLED解膠機(jī)體積小巧,占地面積少,照射區(qū)域可定制,設(shè)備使用更為便捷;重慶UV膜解膠機(jī)無臭氧環(huán)保
解膠的一致性是衡量解膠設(shè)備性能的重要指標(biāo)之一。觸屏式UVLED解膠機(jī)配備了先進(jìn)的光學(xué)系統(tǒng),能夠提供均勻的紫外光照射。通過合理設(shè)計(jì)光源的布局和光學(xué)透鏡的組合,可以使紫外光在工件表面形成均勻的光斑,確保膠水在各個(gè)部位都能受到相同強(qiáng)度和劑量的紫外光照射。無論是大面積的基板還是微小的零件,都能實(shí)現(xiàn)均勻解膠,避免了因解膠不均勻而導(dǎo)致的部分區(qū)域膠水殘留或過度解膠的問題。這對于保證產(chǎn)品的質(zhì)量和穩(wěn)定性至關(guān)重要,尤其在一些對解膠精度要求極高的應(yīng)用場景中,如光學(xué)鏡片的解膠,均勻光照更是不可或缺。重慶UV膜解膠機(jī)參數(shù)UV解膠機(jī)開機(jī)半小時(shí),觀察各儀表、指示燈指示是否正常,如發(fā)現(xiàn)不正,F(xiàn)象時(shí),應(yīng)立即進(jìn)行檢查。
UV 解膠機(jī)的照射時(shí)間參數(shù)設(shè)置,需根據(jù)膠層厚度和工件材質(zhì)進(jìn)行精確校準(zhǔn)。一般來說,UV 膠層厚度每增加 10μm,照射時(shí)間需延長 1-2 秒,但并非線性關(guān)系 一一 當(dāng)膠層厚度超過 50μm 時(shí),紫外線穿透能力會(huì)***下降,此時(shí)需采用階梯式照射法:先以高功率(3000mW/cm)照射 10 秒,使表層膠失效,再降低功率(1500mW/cm)照射 20 秒,確保深層膠完全分解。對于金屬基底工件,由于金屬對紫外線的反射率較高,需適當(dāng)縮短照射時(shí)間,避免反射光導(dǎo)致膠層過度分解;而對于玻璃基底,則可延長照射時(shí)間,利用玻璃的透光性實(shí)現(xiàn)雙面解膠。設(shè)備的智能算法能根據(jù)工件參數(shù)自動(dòng)生成比較好照射曲線,新手操作人員也能快速上手。
在當(dāng)今高度自動(dòng)化與智能化的工業(yè)生產(chǎn)時(shí)代,電子制造、半導(dǎo)體封裝、光學(xué)元件加工等行業(yè)對解膠工藝的精度、效率和環(huán)保性提出了前所未有的高要求。傳統(tǒng)解膠設(shè)備在操作便捷性、解膠效果一致性以及能耗控制等方面逐漸暴露出諸多不足。而觸屏式UVLED解膠機(jī)的出現(xiàn),宛如一場及時(shí)雨,為這些行業(yè)帶來了全新的解決方案。它融合了先進(jìn)的觸屏控制技術(shù)與高效的UVLED光源,以其精細(xì)、高效、環(huán)保等***優(yōu)勢,迅速成為解膠領(lǐng)域的新寵,**著解膠技術(shù)向更高水平邁進(jìn),為推動(dòng)相關(guān)行業(yè)的產(chǎn)業(yè)升級(jí)和高質(zhì)量發(fā)展注入了強(qiáng)大動(dòng)力。觸屏控制、操作簡單,功率可調(diào),時(shí)間可控,多種控制方式,配套自動(dòng)化聯(lián)動(dòng)。
UV 解膠機(jī)的光源冷卻系統(tǒng)設(shè)計(jì),對設(shè)備穩(wěn)定性至關(guān)重要。LED 光源在工作時(shí)會(huì)產(chǎn)生大量熱量,若溫度超過 70℃,會(huì)導(dǎo)致發(fā)光效率下降甚至燈珠燒毀。目前主流的冷卻方式有兩種:風(fēng)冷適用于中小功率設(shè)備(總功率<500W),通過渦輪風(fēng)扇配合散熱鰭片,可將燈珠溫度控制在 60℃以下;水冷適用于大功率設(shè)備(總功率>1000W),采用液冷板直接與燈珠接觸,配合工業(yè)冷水機(jī),散熱效率較風(fēng)冷提升 3 倍以上。部分**設(shè)備采用雙循環(huán)冷卻系統(tǒng),分別冷卻光源和工件臺(tái),避免光源熱量影響工件溫度,這種設(shè)計(jì)尤其適用于對溫度敏感的精密器件解膠。UVLED解膠機(jī)應(yīng)用在光學(xué)鏡頭、LED集成芯片、線路板等半導(dǎo)體材料的UV脫膠也可以使用其完成。上海鴻遠(yuǎn)輝解膠機(jī)怎么用
LEDUV解膠機(jī)主要應(yīng)用在半導(dǎo)體芯片的生產(chǎn)加工過程中。重慶UV膜解膠機(jī)無臭氧環(huán)保
工作高效是UVLED解膠機(jī)的**優(yōu)勢之一?焖俚膯(dòng)、均勻的輻射和精細(xì)的解膠,使得整個(gè)解膠過程在短時(shí)間內(nèi)高質(zhì)量完成,**縮短了生產(chǎn)周期。在晶圓解膠過程中,UVLED解膠機(jī)能夠精確控制解膠深度和范圍,避免對晶圓內(nèi)部結(jié)構(gòu)造成損傷。這對于高精度的半導(dǎo)體芯片制造至關(guān)重要。對于電子元件表面的膠層去除,UVLED解膠機(jī)能夠適應(yīng)不同形狀和尺寸的元件,提供靈活的解膠方案。確保電子元件的性能不受解膠過程影響。由于其均勻的輻射和精細(xì)的控制,UVLED解膠機(jī)在去除膠層的同時(shí),能夠很大程度地保護(hù)材料表面不受損傷。保持材料的原有性能和外觀質(zhì)量。重慶UV膜解膠機(jī)無臭氧環(huán)保