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發(fā)布時間:2025-07-14
單細胞分選需要復雜的流體動力學控制結(jié)構(gòu),傳統(tǒng)光刻難以實現(xiàn)多尺度結(jié)構(gòu)集成。Polos 光刻機的分層曝光功能,在同一片芯片上制備出 5μm 窄縫的細胞捕獲區(qū)與 50μm 寬的廢液通道,通道高度誤差控制在 ±2% 以內(nèi)。某細胞生物學實驗室利用該芯片,將單細胞分選通量提升至 1000 個 / 秒,分選純度達 98%,較傳統(tǒng)流式細胞儀體積縮小 90%。該技術(shù)已應用于循環(huán)tumor細胞檢測,使稀有細胞捕獲效率提升 3 倍,相關(guān)設(shè)備進入臨床驗證階段。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設(shè)計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領(lǐng)域,為半導體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。全球產(chǎn)業(yè)鏈整合:德國精密制造背書,與Lab14集團共推光通信芯片封裝技術(shù)。陜西德國PSP-POLOS光刻機可以自動聚焦波長
在航空航天科研中,某科研團隊致力于研發(fā)用于環(huán)境監(jiān)測和偵察的微型飛行器。其中,制造輕量化且高性能的微機械部件是關(guān)鍵。德國 Polos 光刻機憑借無掩模激光光刻技術(shù),助力團隊制造出尺寸precise、質(zhì)量輕盈的微型齒輪、機翼骨架等微機械結(jié)構(gòu)。例如,利用該光刻機制造的微型齒輪,齒距精度達到納米級別,極大提高了飛行器動力傳輸系統(tǒng)的效率和穩(wěn)定性;诖,科研團隊成功試飛了一款新型微型飛行器,其續(xù)航時間和飛行靈活性遠超同類產(chǎn)品,為未來微型飛行器在復雜環(huán)境下的應用奠定了堅實基礎(chǔ)。浙江德國POLOS桌面無掩模光刻機讓你隨意進行納米圖案化Polos-BESM XL:加大加工幅面,滿足中尺寸器件一次性成型需求。
無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設(shè)計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領(lǐng)域,為半導體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。
德國 Polos 光刻機系列是電子學領(lǐng)域不可或缺的精密設(shè)備。其無掩模激光光刻技術(shù),讓電路圖案曝光不再受限于掩模,能夠?qū)崿F(xiàn)超高精度的圖案繪制。在芯片研發(fā)過程中,Polos 光刻機可precise刻畫出納米級別的電路結(jié)構(gòu),為芯片性能提升奠定基礎(chǔ)。 科研團隊使用 Polos 光刻機,成功開發(fā)出更高效的集成電路,降低芯片能耗,提高運算速度。而且,該光刻機可輕松輸入任意圖案,滿足不同電子元件的多樣化設(shè)計需求。無論是新型傳感器的電路制作,還是微型處理器的研發(fā),Polos 光刻機都能以高精度、低成本的優(yōu)勢,為電子學領(lǐng)域的科研成果產(chǎn)出提供有力*,推動電子技術(shù)不斷創(chuàng)新。柔性電子制造:可制備叉指電容器與高頻電路,推動5G通信與物聯(lián)網(wǎng)硬件發(fā)展。
一家專注于再生醫(yī)學的科研公司在組織工程支架的研究上,使用德國 Polos 光刻機取得remarkable成果。組織工程支架需要具備特定的三維結(jié)構(gòu),以促進細胞的生長和組織的修復。Polos 光刻機能夠根據(jù)預先設(shè)計的三維模型,在生物可降解材料上精確制造出復雜的孔隙結(jié)構(gòu)和表面圖案。通過該光刻機制造的支架,在動物實驗中表現(xiàn)出優(yōu)異的細胞黏附和組織生長引導能力。與傳統(tǒng)制造方法相比,使用 Polos 光刻機生產(chǎn)的支架,細胞在其上的增殖速度提高了 50%,為組織工程和再生醫(yī)學的臨床應用提供了有力支持。POLOS 光刻機:微型化機身,納米級曝光精度,微流體芯片制備周期縮短 40%。浙江德國POLOS桌面無掩模光刻機讓你隨意進行納米圖案化
微型傳感器量產(chǎn):80 m開環(huán)諧振器加工能力,推動工業(yè)級MEMS傳感器升級。陜西德國PSP-POLOS光刻機可以自動聚焦波長
在organ芯片研究中,模擬人體organ微環(huán)境需要微米級精度的三維結(jié)構(gòu)。德國 Polos 光刻機憑借無掩模激光光刻技術(shù),幫助科研團隊在 PDMS 材料上構(gòu)建出仿生血管網(wǎng)絡與組織界面。某再生醫(yī)學實驗室使用 Polos 光刻機,成功制備出肝芯片微通道,其內(nèi)皮細胞黏附率較傳統(tǒng)方法提升 40%,且可通過軟件實時調(diào)整通道曲率,precise模擬肝臟血流動力學。該技術(shù)縮短了organ芯片的研發(fā)周期,為藥物肝毒性測試提供了更真實的體外模型,相關(guān)成果入選《自然生物技術(shù)》年度創(chuàng)新技術(shù)案例。陜西德國PSP-POLOS光刻機可以自動聚焦波長