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濟(jì)南厚膜光刻膠品牌 源頭廠(chǎng)家 吉田半導(dǎo)體供應(yīng)

發(fā)貨地點(diǎn):廣東省東莞市

發(fā)布時(shí)間:2025-06-18

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詳細(xì)信息

關(guān)鍵應(yīng)用領(lǐng)域

半導(dǎo)體制造:

在晶圓表面涂覆光刻膠,通過(guò)掩膜曝光、顯影,刻蝕出晶體管、電路等納米級(jí)結(jié)構(gòu)(如EUV光刻膠用于7nm以下制程)。

 印刷電路板(PCB):

保護(hù)電路圖形或作為蝕刻抗蝕層,制作線(xiàn)路和焊盤(pán)。

 顯示面板(LCD/OLED):

用于制備彩色濾光片、電極圖案等。

 微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS):

加工微結(jié)構(gòu)(如傳感器、執(zhí)行器)。

工作原理(以正性膠為例)

1. 涂膠:在基材(如硅片)表面均勻旋涂光刻膠,烘干形成薄膜。

2. 曝光:通過(guò)掩膜版,用特定波長(zhǎng)光線(xiàn)照射,曝光區(qū)域的光敏劑分解,使樹(shù)脂變得易溶于顯影液。

3. 顯影:用顯影液溶解曝光區(qū)域,留下未曝光的光刻膠圖案,作為后續(xù)刻蝕或離子注入的掩蔽層。

4. 后續(xù)工藝:刻蝕基材(保留未被光刻膠保護(hù)的區(qū)域),或去除光刻膠(剝離工藝)。
半導(dǎo)體材料選吉田,歐盟認(rèn)證,支持定制化解決方案!濟(jì)南厚膜光刻膠品牌

濟(jì)南厚膜光刻膠品牌,光刻膠

依托自主研發(fā)與國(guó)產(chǎn)供應(yīng)鏈,吉田半導(dǎo)體 LCD 光刻膠市占率達(dá) 15%,躋身國(guó)內(nèi)前段企業(yè)。吉田半導(dǎo)體 YK-200 LCD 正性光刻膠采用國(guó)產(chǎn)樹(shù)脂與單體,實(shí)現(xiàn) 100% 國(guó)產(chǎn)化替代。其分辨率 0.35μm,附著力 > 3N/cm,性能優(yōu)于 JSR 的 AR-P310 系列。通過(guò)與國(guó)內(nèi)多家大型企業(yè)的深度合作,產(chǎn)品覆蓋智能手機(jī)、電視等顯示終端,年供貨量超 200 噸。公司建立國(guó)產(chǎn)原材料溯源體系,確保每批次產(chǎn)品穩(wěn)定性,推動(dòng) LCD 面板材料國(guó)產(chǎn)化進(jìn)程。

濟(jì)南厚膜光刻膠品牌聚焦封裝需求,吉田公司提供從光刻膠到配套材料的一站式服務(wù)。

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納米壓印光刻膠


  • 微納光學(xué)器件制造:制作衍射光學(xué)元件、微透鏡陣列等微納光學(xué)器件時(shí),納米壓印光刻膠可實(shí)現(xiàn)高精度的微納結(jié)構(gòu)復(fù)制。通過(guò)納米壓印技術(shù),將模板上的微納圖案轉(zhuǎn)移到光刻膠上,再經(jīng)過(guò)后續(xù)處理,可制造出具有特定光學(xué)性能的微納光學(xué)器件,應(yīng)用于光通信、光學(xué)成像等領(lǐng)域。
  • 生物芯片制造:在 DNA 芯片、蛋白質(zhì)芯片等生物芯片的制造中,需要在芯片表面構(gòu)建高精度的微納結(jié)構(gòu),用于生物分子的固定和檢測(cè)。納米壓印光刻膠可幫助實(shí)現(xiàn)這些精細(xì)結(jié)構(gòu)的制作,提高生物芯片的檢測(cè)靈敏度和準(zhǔn)確性。

  • 廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品,主要涵蓋厚板、負(fù)性、正性、納米壓印及光刻膠等類(lèi)別,以滿(mǎn)足不同領(lǐng)域的需求。

    UV 納米壓印光刻膠:JT-2000 型號(hào),耐強(qiáng)酸強(qiáng)堿,耐高溫達(dá) 250°C,長(zhǎng)期可靠性高,粘接強(qiáng)度高,重量 100g。適用于需要在特殊化學(xué)和高溫環(huán)境下進(jìn)行納米壓印光刻的工藝,如半導(dǎo)體器件制造。

    其他光刻膠

    • 水油光刻膠 JT-2001:屬于水油兩用光刻膠,具有工廠(chǎng)研發(fā)、可定制、使用、品質(zhì)保障、性能穩(wěn)定的特點(diǎn),重量 1L。
    • 水油光刻膠 SR-3308:同樣為水油兩用光刻膠,重量 5L,具備上述通用優(yōu)勢(shì),應(yīng)用場(chǎng)景。


    松山湖光刻膠廠(chǎng)家吉田,2000 萬(wàn)級(jí)產(chǎn)能,48 小時(shí)極速交付!

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     企業(yè)定位與資質(zhì)

    成立背景:深耕半導(dǎo)體材料行業(yè)23年,位于松山湖經(jīng)濟(jì)技術(shù)開(kāi)發(fā)區(qū),注冊(cè)資本2000萬(wàn)元,是國(guó)家高新技術(shù)企業(yè)、廣東省專(zhuān)精特新企業(yè)及廣東省創(chuàng)新型中小企業(yè)。

    質(zhì)量體系:通過(guò)ISO9001:2008認(rèn)證,嚴(yán)格執(zhí)行8S現(xiàn)場(chǎng)管理,原材料源自美國(guó)、德國(guó)、日本等國(guó),確保產(chǎn)品穩(wěn)定性。

    市場(chǎng)布局:產(chǎn)品遠(yuǎn)銷(xiāo)全球,與世界500強(qiáng)企業(yè)及多家電子加工企業(yè)建立長(zhǎng)期合作關(guān)系,覆蓋集成電路、顯示面板、先進(jìn)封裝等領(lǐng)域。


    光刻膠的關(guān)鍵應(yīng)用領(lǐng)域。合肥LED光刻膠多少錢(qián)

     企業(yè)優(yōu)勢(shì)

    研發(fā)能力:擁有多項(xiàng)專(zhuān)利證書(shū),自主研發(fā)芯片光刻膠、納米壓印光刻膠等產(chǎn)品,配備全自動(dòng)化生產(chǎn)設(shè)備,具備從材料合成到成品制造的全流程能力。

    產(chǎn)能與品控:采用進(jìn)口原材料和嚴(yán)格制程管控,確保金屬雜質(zhì)含量低于行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)(如半導(dǎo)體光刻膠金屬雜質(zhì)<5ppb),良率達(dá)99%以上。

    正性光刻膠生產(chǎn)原料。濟(jì)南厚膜光刻膠品牌

    納米電子器件制造

    半導(dǎo)體芯片:在22nm以下制程中,EUV光刻膠(分辨率≤10nm)用于制備晶體管柵極、納米導(dǎo)線(xiàn)等關(guān)鍵結(jié)構(gòu),實(shí)現(xiàn)芯片集成度提升(如3nm制程的FinFET/GAA晶體管)。

    二維材料器件:在石墨烯、二硫化鉬等二維材料表面,通過(guò)電子束光刻膠定義納米電極陣列,構(gòu)建單原子層晶體管或傳感器。

     納米光子學(xué)與超材料

    光子晶體與波導(dǎo):利用光刻膠制備亞波長(zhǎng)周期結(jié)構(gòu)(如光子晶體光纖、納米級(jí)波導(dǎo)彎頭),調(diào)控光的傳播路徑,用于集成光路或量子光學(xué)器件。

    超材料設(shè)計(jì):在金屬/介質(zhì)基底上刻蝕納米級(jí)“魚(yú)網(wǎng)狀”“蝴蝶結(jié)”等圖案(如太赫茲超材料),實(shí)現(xiàn)對(duì)電磁波的超常調(diào)控(吸收、偏振轉(zhuǎn)換)。
    濟(jì)南厚膜光刻膠品牌

     

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